BPatG 15408.05BUNDESPATENTGERICHT19 W (pat) 701/10_______________(Aktenzeichen)Verkündet am24. November 2010…B E S C H L U S SIn der Einspruchssache…- 2 -betreffend das Patent 198 17 714hat der 19. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf die mündliche Verhandlung vom 24. November 2010 unter Mitwirkung Vorsitzen-den Richters Dipl.-Ing. Bertl, des Richters Dr.-Ing. Kaminski, der Richterin Kirschneck und des Richters Dipl.-Ing. Großbeschlossen:Das Patent 198 17 714 wird beschränkt mit folgenden Unterlagen aufrechterhalten:Patentansprüche 1 bis 9, wie überreicht in der mündlichen Ver-handlung, übrige Unterlagen, Beschreibung und 1 Blatt Zeich-nung, jeweils wie erteilt.G r ü n d eI.Für die am 21. April 1998 beim Deutschen Patent- und Markenamt eingegangene Anmeldung wurde die Erteilung des nachgesuchten Patents am 28. Dezember 2006 veröffentlicht. Das Patent betrifft einVerfahren zur Messung der Lage von Strukturen auf einer Mas-kenoberfläche.Gegen das Patent hat die Z… SMS GmbH in J…, mit Schriftsatz vom28. März 2007, eingegangen am selben Tag, Einspruch erhoben.Mit Eingabe vom 4. Juni 2008 hat die Einsprechende einen Antrag auf patentge-richtliche Entscheidung gemäß § 61 Abs. 2 PatG gestellt.- 3 -Der in der mündlichen Verhandlung vom 24. November 2010 vorgelegte geltende Hauptanspruch lautet nach Berichtigung eines in der veröffentlichten Fassung ent-haltenen Druckfehlers (im Merkmal e)) und nach Streichung eines dort offensicht-lich fehlerhaft gesetzten Kommas (im Merkmal g)) sowie mit einer vom Senat ein-gefügten Merkmalsgliederung:"a) Verfahren zur Messung von Strukturen auf einer Maskenober-fläche,b) bei dem die Maske in einem bildauswertenden Koordinaten-meßgerät auf einem senkrecht zur optischen Achse eines ab-bildenden Meßsystemsb1) interferometrisch messbar verschiebbaren Messtisch gelagertc) und ein der Maske zugeordnetes Masken-Koordinatensystem über Ausrichtmarken relativ zu einem Messgeräte-Koordina-tensystem ausgerichtet wird,d) und wobei eine Soll-Koordinatenposition der Strukturen in dem Masken-Koordinatensystem vorgegeben ist,e) und eine Ist-Koordinatenposition der Strukturen im Masken-Koordinatensystem bestimmt wird,dadurch gekennzeichnet,f) dass eine Koordinatenposition von zwei senkrecht zueinander stehenden Außenkanten der Maske im Masken-Koordinaten-system gemessen wird,g) dass die Messung der Lage der Außenkante mit einer Abbil-dungsoptik mit niedriger Apertur durchgeführt wird, undh) dass eine Oberfläche des Messtisches zumindest im Bereich der Außenkanten der aufliegenden Maske für die Abbildungs-strahlen des Messgerätes reflektierend ausgebildet ist."- 4 -Die Einsprechende trägt vor, dass die Erfindung nicht neu sei, nicht auf einer erfin-derischen Tätigkeit beruhe, und dass das Patent die Erfindung nicht so deutlich und vollständig offenbare, dass ein Fachmann sie ausführen könne.Auch seien mehrere der in den erteilten Ansprüchen und in der zugehörigen Be-schreibung verwendeten Begriffe willkürlich gewählt und beinhalteten keine techni-schen Unterschiede.Der Gegenstand des geltenden Anspruchs 1 sei hinsichtlich der Merkmale a) bis e), die den erteilten Anspruch 1 umfassen, nicht neu gegenüber dem aus der EP 0 096 224 B1 Bekannten. Denn auch dort würden Masken mit einem messen-den Verfahren untersucht, bei dem die Kantenposition - aufgrund des Aufeinan-derliegens der Koordinatensystem-Nullpunkte - von selbst mitbestimmt würden, weil jeder Koordinatenwert den Abstand zur Kante verkörpere. Mitzulesen sei auch die Bewegbarkeit des als "stage" bezeichneten Tisches, dessen Position selbstverständlich interferometrisch messbar sei.Die als Merkmale g) und h) aufgenommenen erteilten Ansprüche 5 und 6 be-schränken nach Ansicht der Einsprechenden das Verfahren nicht auf eine lichtop-tische Messung. Schon deshalb ziehe der Fachmann den aus der US 5 497 007 bekannten Stand der Technik zur Lösung des Patentproblems in Betracht; dieser sei explizit nicht auf das Ausführungsbeispiel mit unsichtbarer Strahlung be-schränkt. Die beanspruchte "niedrige" Apertur sei mangels Offenbarung eines Be-zugswertes nicht beschränkend; dies gelte auch für die im letzten Merkmal bean-spruchte reflektierende Eigenschaft der Messtischoberfläche, da jede Materie in gewissem Umfang reflektierend sei.Demnach sei der Gegenstand des geltenden Anspruchs 1 durch die Zusammen-schau der beiden vorgenannten Druckschriften nahegelegt.- 5 -Nach Ansicht der Einsprechenden stehe aber auch die US 5 497 007 allein dem beanspruchten Verfahren patenthindernd entgegen, denn die dortige Waferver-messung sei einerseits auch auf Maskenstrukturmessungen lesbar, und der gel-tende Anspruch 1 sei andererseits nicht auf eine gerade Maskenkante beschränkt, sondern erfasse auch Objekte mit rundem Umfang.Auch dort werde das Koordinatensystem des Substrats über eine Kantenmessung und in nur einem Gerät bestimmt. Das Arbeiten mit Messfenstern an der Substrat-kante gemäß dortiger Figur 8 entspreche dem in Figur 4 der Streitpatentschrift of-fenbarten Vorgehen. Schließlich entspreche die Defektvermessung von Wafer-strukturen dem patentgemäßen Vermessen von Koordinatenpositionen der Struk-turen auf der Maskenoberfläche.Die Einsprechende beantragt,das Patent 198 17 714 in vollem Umfang zu widerrufen.Die Patentinhaberin beantragt,das angegriffene Patent beschränkt mit folgenden Unterlagen auf-recht zu erhalten:Patentansprüche 1 bis 9, wie überreicht in der mündlichen Ver-handlung, übrige Unterlagen, Beschreibung und 1 Blatt Zeich-nung, jeweils wie erteilt.Sie gesteht zu, dass mit dem Begriff "Struktur" im Patentanspruch 1 jegliche mess-baren Strukturen auf der Maskenoberfläche zu verstehen seien, insbesondere auch die (Nutz-)Strukturen zur Erzeugung von entsprechenden Waferstrukturen als Elemente elektrischer Bauteile oder Leitungsverbindungen.- 6 -Auch sieht sie keinen Unterschied zwischen "Messen" und "Bestimmen" von Koor-dinatenpositionen. Die Patentinhaberin sieht aber einen Unterschied zwischen der erfindungsgemäßen Qualitätssicherung und produktionsvorbereitenden Verfahren wie sie in der EP 0 096 224 B1 beschrieben seien. Dort sei insbesondere keine Messung des Abstandes zwischen Kanten und Strukturen vorgesehen. Mit den Merkmalen g) und h) sei das anspruchsgemäße Verfahren nun auch auf die Ver-wendung sichtbaren Lichtes beschränkt. Dem Fachmann fehle jeder Anlass, die EP 0 105 661 A1 zur Lösung des Patentproblems heranzuziehen; denn dort werde die gesamte Fläche erfasst und die ermittelten Strukturdaten lediglich mit gespei-cherten Referenzdaten verglichen, nicht aber mit Kantenkoordinaten. Die US 5 497 007 ziehe der Fachmann schon deshalb nicht in Betracht, weil die pa-tentgemäße Strukturvermessung nichts mit der dort beschriebenen Wafervermes-sung zu tun habe, bei der der Waferrand bedeutungslos sei; auch sei dort der Wa-ferrand rund und nicht geradlinig wie die anspruchsgemäße Maskenkante und in-soweit nicht relevant.Schließlich werde das patentgemäße Verfahren in einem einzigen Gerät durchge-führt ohne Umlagerung der Maske, was im Stand der Technik nicht bekannt sei, der auch keinen entsprechenden Hinweis biete.Wegen weiterer Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen.II.1. Die Zuständigkeit des Bundespatentgerichts für die Entscheidung über den am 28. März 2007 erhobenen Einspruch beruht auf dem - auf § 61 Abs. 2 PatG ge-stützten - Antrag der Einsprechenden vom 4. Juni 2008.- 7 -Denn gemäß der ersten Alternative dieser Vorschrift entscheidet der Beschwerde-senat des Bundespatentgerichts, wenn ein Beteiligter dies beantragt und kein an-derer Beteiligter innerhalb von zwei Monaten nach Zustellung des Antrags wider-spricht.2. Der statthafte und auch sonst zulässige Einspruch konnte keinen über die bean-tragte Beschränkung des angegriffenen Patents hinausgehenden Erfolg haben.Als für die Beurteilung der Lehre des Streitpatents und des Standes der Technik zuständigen Fachmann sieht der Senat einen Diplom-Physiker (Univ.) oder Dipl.-Ing. (Univ.) der Fachrichtung Elektrotechnik/Halbleitertechnik an mit Berufs-erfahrung in der Entwicklung und Fertigung von Messeinrichtungen für die Ferti-gung integrierter Halbleiter.3. Die dem Fachmann durch den erteilten Anspruch 1 gegebene Lehre muss hin-sichtlich mehrerer Merkmale unter Heranziehung der Gesamtoffenbarung der Streitpatentschrift zunächst ermittelt werden.Unter der im Merkmal a) genannten Messung von Strukturen versteht der Fach-mann im Blick auf die in den Merkmalen d) und e) genannten Koordinatenpositio-nen die Messung der Lage von Strukturen auf der Maskenoberfläche.Übereinstimmend mit der Sicht der Patentinhaberin entnimmt der Fachmann nach Ansicht des Senats aus der Streitpatentschrift, dass unter den Begriff Strukturen(Merkmale a), d) und e)) sowohl die auf einen Wafer zu belichtenden Maskenmus-ter zur Bildung elektronischer Bauteile oder Leitungsverbindungen zu verstehen sind als auch "Hilfsstrukturen" wie Ausrichtemarken (Abs. [0002]) oder Centrality Marken (Abs. [0007]). Denn die Patentbeschreibung verwendet außer dem Begriff Strukturen noch die Begriffe "ausgewählte Strukturelemente" (Abs. [0012]), "ande-re gemessene Strukturen" (Abs. [0013]) und "Strukturen aus der regulären Mas-kenstruktur als Centrality-Marken…" ([Abs. [0029]), so dass der Fachmann aus - 8 -der Zusammenschau aller Angaben entnimmt, dass jede normalerweise messbare Struktur (Abs. [0026]) auf der Maskenoberfläche unter den Anspruchsbegriff "Strukturen" fällt.Dass das anspruchsgemäße Verfahren auf einem einzigen Gerät durchgeführt wird, was eine Umlagerung der Maske als weiteren Verfahrensschritt ausschließt, ergibt sich schon daraus, dass Merkmal h) auf eine Oberfläche des Messtisches Bezug nimmt, d. h. auf den in Merkmal b1) genannten einzigen Messtisch.Merkmal b1) schränkt das Verfahren dahingehend ein, dass die Messtischver-schiebung interferometrisch zu messen ist und nicht auf beliebige andere Weise; denn so wie auch die anderen Sachmerkmale im Anspruch 1 lediglich als Kurzfas-sungen für die dahinterstehenden Verfahrensschritte anzusehen sind, kann für Merkmal b1) nichts anderes gelten.Mit der Lagerung auf einem verschiebbaren Messtisch (Merkmal b1) und der Aus-richtung gegenüber einem Messgeräte-Koordinatensystem (Merkmal c) wird schon aus Patentanspruch 1 heraus klar, dass sowohl unter dem "Bestimmen" ei-ner Koordinatenposition der Strukturen gemäß Merkmal e) als auch unter dem "Messen" einer Koordinatenposition der Außenkanten gemäß Merkmal f) eine Kombination aus Messen und anschließendem Umrechnen zwischen den Koordi-natensystemen zu verstehen ist.Es gehört zu den Elementarkenntnissen der Geometrie, dass zwei senkrecht zuei-nander stehende Außenkanten eines Körpers (hier: einer Maske) geradlinig ver-laufen; dass der hier zuständige Fachmann ein anderes Verständnis dieses Teil-merkmals f) haben könnte, ist nicht ersichtlich.- 9 -Merkmal h) lehrt den Fachmann eine lichtoptische Kontrastmessung zwischen ei-ner möglichst stark reflektierenden Messtischoberfläche und einer möglichst ge-ring reflektierenden Maskenoberfläche, die mit dem bildauswertenden Messgeräte (Merkmal b) leicht erfassbar ist. Denn im Zusammenhang mit den Vorteilen des Patentgegenstandes ist von einer Kante gesprochen, die im reflektierten Licht be-leuchtet ist und von einer Lichtintensität, die in das Meßsystem gelangt (Abs. [0011]); auch das beispielhaft anhand der Figuren beschriebene Verfahren nennt wiederholt Licht bzw. Lichtstrahlen, und die Beschreibung der Figuren 3 und 4 lässt klar erkennen, dass im Streitpatent ausschließlich Messungen mit sichtba-rem Auflicht durchgeführt werden. So wird zur Erzielung eines hohen Kontrastes beim patentgemäßen Ausführungsbeispiel die Maskenkante im Bereich A abge-schrägt (Fig. 3).4. Der Patentanspruch 1 ist zulässig, denn er fasst die erteilten Patentansprü-che 1, 5 und 6 nach Maßgabe ihrer Rückbeziehung zusammen.Hinsichtlich der in den Merkmalen b), b1), g) und h) enthaltenen Vorrichtungs-merkmale bestehen keine Bedenken zur Klarheit der Patentkategorie. Denn diese Merkmale beschreiben in kürzest möglicher Form die jeweilige Verfahrensführung, nämlich durch Bildauswertung (Merkmal b), durch Verschieben einer Maske mit-tels des diese tragenden Messtisches (Merkmal b1), durch interferometrische Messung der Tischposition (Merkmal b1), durch eine Messung mit hoher Tiefen-schärfe (Merkmal g) und durch Erfassung des Kontrastes zwischen Maskenkante und Hintergrund (Merkmal h).5. Mit dem voranstehend erläuterten fachmännischen Verständnis des erteilten Anspruchs 1 offenbart das Streitpatent die Erfindung so deutlich und vollständig, dass ein Fachmann sie ausführen kann (§ 21 Abs 1 Nr. 2 PatG).- 10 -Wie vorangehend dargelegt ist, wird das anspruchsgemäße Verfahren ohne Umla-gerung der Maske auf einem einzigen Gerät durchgeführt, so dass schon hier-durch eine gesteigerte Geschwindigkeit und verringerte Beschädigungsgefahr ge-geben ist, wie die in der Patentschrift (Abs. [0009]) angegebene Aufgabe fordert.Auch eine aufgabengemäß angestrebte höhere Genauigkeit erscheint dem Senat mit der anspruchsgemäßen Verfahrensführung erreichbar; denn mit den Koordina-tenpositionen zweier senkrecht zueinander stehender Außenkanten stehen zur La-gebestimmung und -korrektur weitere Messdaten zur Verfügung, die zur Steige-rung der Genauigkeit bei den hierfür erforderlichen Auswertungen herangezogen werden können.Dass der Fachmann die Verfahrensschritte gemäß den Merkmalen a) bis f) des geltenden Anspruchs 1 tatsächlich ausführen kann, hat die Einsprechende zuge-standen und hinsichtlich der Merkmale g) und h) nicht bestritten (vgl. S. 4 Abs. 4 und die Punkte 5.5 und 5.6 des Einspruchsschriftsatzes vom 28. März 2007).6. Der Gegenstand gemäß dem geltenden Patentanspruch 1 ist gegenüber dem im Verfahren bekanntgewordenen Stand der Technik neu (§ 3 PatG) und beruht auch auf einer erfinderischen Tätigkeit des Fachmanns (§ 4 PatG).6.1 Die EP 0 096 224 B1 betrifft eine Positionierungsmethode für ein Maskenset bei der IC-Produktion (Titel), bei der eine exakte Aufeinanderfolge der Masken un-abdingbar ist (Sp. 1 Z. 15 bis 18). Um die erforderliche Position der jeweils folgen-den Maske bestimmen und optimieren zu können, bilden die Ausrichtemar-ken 14a, 14b auf der ersten Maske zusammen mit den Ausrichtemarken 19a, 19b auf der zweiten und jeder folgenden Maske jeweils eine noniusartige Skala (Fig. 2 und 3 i. V. m. Sp. 2 Z. 27 bis Sp. 3 Z. 7). Für die spätere Positionierung wird jede Maske vermessen in einem bildgebenden Koordinatenmessgerät (Fig. 4 und 5 m.d. zugeh. Text).- 11 -Damit ist aus dieser Druckschrift in Übereinstimmung mit Merkmalen des gelten-den Anspruchs 1 bekannt eina) Verfahren zur Messung von Strukturen (Ausrichtmarken in den Ausrichtfeldern 42, 43, 59, 60, z. B. Sp. 4 Z. 31 bis 40) einer Maskenoberfläche,b) bei dem die Maske 38, 58 in einem bildauswertenden Koordinatenmeßgerät (Nikon Modell 21, vgl. Sp. 4 Z. 12 bis 20) auf einem senkrecht zur optischen Achse eines abbildenden Meßsystemsb1)teilweise verschiebbaren Messtisch 39 (stage) gelagert (Fig. 4 und 5)c) und ein der Maske zugeordnetes Masken-Koordinaten-system X, Y (Sp. 4 Z. 46 bis 47) über Ausrichtmarken (in den Ausrichtfeldern 42, 43) relativ zu einem Messge-räte-Koordinatensystem X', Y' (Sp. 4 Z. 31 bis 35) aus-gerichtet wird,d) und wobei eine Soll-Koordinatenposition der Strukturen in dem Masken-Koordinatensystem vorgegeben ist (Sp. 5 Z. 50 bis 51),e) und eine Ist-Koordinatenposition der Strukturen im Mas-ken-Koordinatensystem bestimmt wird (Sp. 5 Z. 42 bis 49).Zumindest für den in Figur 5 gezeigten Fall der Anlage der beiden senkrecht zuei-nander stehenden Außenkanten der Maske 58 an den Innenseiten des rechtwinkli-gen Tischanschlags fallen die Nullpunkte 40 bzw. 41 des Masken- bzw. Maschi-nenkoordinatensystems zusammen, so dass auch die Koordinatenposition der bei-den Außenkanten im Sinne des Merkmals e) gemessen wird und die Daten im System gespeichert sind für weitere Auswertungen.- 12 -Damit ist auch Merkmal f) des geltenden Anspruchs 1 dort bekannt.Eine lichtoptische Bestimmung der Lage der Außenkante durch Erfassung des Kontrastes zwischen der Kante der auf dem Messtisch liegenden Maske und der Oberfläche des Messtisches ist dort jedoch nicht offenbart, so dass sich der gel-tende Anspruch 1 von dem bekannten Verfahren unterscheidet dadurch,b1)Restmerkmal daß die Meßtischverschiebung interferometrisch ge-messen wirdg) daß die Messung der Lage der Außenkante mit einer Abbildungsoptik mit niedriger Apertur durchgeführt wird, undh) daß eine Oberfläche des Messtisches zumindest im Bereich der Außenkanten der aufliegenden Maske für die Abbildungsstrahlen des Messgerätes reflektie-rend ausgebildet ist."Die US 5 497 007 betrifft ein Verfahren zum automatischen Festlegen eines Wa-ferkoordinatensystems (Titel), bei dem verschiedene Waferkantenpositionen zur Bestimmung der Wafermitte und der Waferorientierung genutzt werden (Abstract). Durch Koordinatentransfomation zwischen dem - die gewünschten Strukturen auf den Wafer - abbildenden System (imaging process, imaging system), das aber nicht Gegenstand des dortigen Verfahrens ist, und dem Wafer kann dann jeder Punkt auf dem Wafer präzise angefahren werden.Auch wenn einzelne Verfahrensschritte vergleichbar sein mögen mit dem an-spruchsgemäßen Verfahren, kann sich der Senat der Ansicht der Einsprechenden nicht anschließen, dass die dortige Wafervermessung technisch das Gleiche sei wie die patentgemäße Vermessung einer Maskenstruktur. Denn dort wird ausge-hend von der Waferkante als Anlagepunkt ein Koordinatensystem bestimmt.- 13 -Die US 5 497 007 offenbart demnach schon kein Verfahren zur Messung von Strukturen auf einer Maskenoberfläche mit den Merkmalen b) und d) bis e).Abgesehen von einem der Orientierung des Wafers 114 dienenden geraden Kan-tenabschnitt (flatted portion, Fig. 3 oben und Sp. 7 Z. 33) ist der Wafer rund, so dass auch die gegenständlichen Voraussetzungen (Sachmerkmal: zwei senkrecht zueinander stehende Außenkanten) im Verfahrensschritt f) dort nicht vorliegen.Dass einander benachbarte Bestimmungspunkte 300 in Umfangsrichtung um 90° voneinander entfernt liegen, ist deshalb - entgegen der Ansicht der Einsprechen-den - ohne Bedeutung.Nachdem dort lediglich Messverfahren mit unsichtbaren Strahlen (Elektronen-bzw. Röntgenstrahlen) beschrieben sind, offenbart die Erwähnung von "anderen Kantendetektionseinrichtungen" 110 (Fig. 1) dem Fachmann auch keine lichtopti-sche Kantenvermessung gemäß den Merkmalen g) und h).Dabei kann dahingestellt bleiben, dass jegliche Materie in bestimmtem Umfang lichtreflektierende Eigenschaften aufweist; denn entgegen der Lehre des Merk-mals h) wird dort für eine Wafervermessung mit Elektronenstrahlen auch kein möglichst heller Hintergrund kontrastgebend genutzt wie im Merkmal f), sondern die große Helligkeit der Waferkante infolge Streuung (Sp. 9 Z. 48 bis 67), und für die Verwendung von Röntgenstrahlen eine Emissionslinie des Siliziumwafers.Die EP 0 105 661 B1 beschreibt im Zusammenhang mit einer Vorrichtung zur In-spektion von Strukturen (circuit pattern) auf einer Maskenoberfläche (photomask, vgl. Titel) auch ein zugehöriges Messverfahren, so dass Merkmal a) des An-spruchs 1 dort vorweggenommen ist.- 14 -Zwar werden mit dem festen linearen Bildsensor 5 im Durchlichtverfahren nur Teil-bilder erzeugt, die durch interferometrisch messbares Verschieben des Messti-sches 2 das gesamte Muster abtasten (Sp. 2 Z. 44 bis Sp. 3 Z. 62). Da der Patent-anspruch 1 aber nicht auf Vollbild-auswertende Koordinatenmessgeräte be-schränkt ist, sind dort auch die Merkmale b) und b1) vorweggenommen.Alle Koordinaten werden in einem Messgeräte-Koordinatensystem X-Y erfasst (Fig. 3, Sp. 5 Z. 1 bis 9), gegenüber dem der Messtisch und damit die Maske aus-gerichtet wird (Teilmerkmal c); ein Maskenkoordinatensystem ist dort nicht ver-wendet, so dass dieses Restmerkmal c) dort nicht verwirklicht ist.Dementsprechend werden gemäß diese Druckschrift die vorgegebenen Soll- und die bestimmten Ist-Koordinatenpositionen der Strukturen (Teilmerkmale d) und e) auch nicht im Maskenkoordinatensystem bestimmt, sondern nur im Messgeräte-Koordinatensystem.Der Vortrag der Einsprechenden, dass in der EP 0 105 661 B1 die Koordinatenpo-sition von zwei senkrecht zueinander stehenden Außenkanten der Maske gemes-sen werde (Teilmerkmal f), findet in der Offenbarung dieser Druckschrift nach An-sicht des Senats keine Stütze. Zwar erstreckt sich der lineare Bildsensor 5 beim Messen des Teilbildes 21 über den linken Maskenrand hinaus und überfährt zum Messen der weiteren Teilbilder auch den oberen und unteren Maskenrand (gestri-chelter Verfahrweg des Messtisches) und es ist auch angegeben, dass die gesam-te Fläche der Maske gemessen wird (Sp. 3 Z. 16).Jedoch ist für die dort auf Musterfehler oder Musterdefekte gerichtete Auswertung (Sp. 13 Z. 54 bis 56) an keiner Stelle ein Bezug auf die Maskenkante ersichtlich, so dass der Fachmann nach Ansicht des Senats im Hinblick auf das dort ebenfalls fehlende Maskenkoordinatensystem auch nicht mitliest, dass die Kantenpositionen überhaupt bestimmt werden durch Ermitteln und Abspeichern der zum Abbild ei-ner Kante gehörenden X-Y-Koordinaten das Messgeräts.- 15 -Da die lichtoptische Messung in der EP 0 015 661 B1 im Durchlichtverfahren er-folgt, und hinsichtlich der Schärfentiefe keinerlei Angaben gemacht werden, sind auch die Merkmale g) und h) des geltenden Anspruchs 1 nicht offenbart.Die weiteren im Verfahren genannten Druckschriften liegen vom Anspruchsgegen-stand weiter ab als der vorgenannte Stand der Technik. Sie wurden in der mündli-chen Verhandlung weder von den Beteiligten noch vom Senat aufgegriffen, so dass auf sie nicht eingegangen zu werden braucht.6.2 Der Senat kann auch nicht erkennen, dass das im geltenden Patentanspruch 1 angegebene Verfahren nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit des Fachmanns be-ruht.Nachdem schon mit dem aus der EP 0 096 224 B1 bekannten Verfahren ohne Umlagerung der Maske auf ein weiteres Messgerät - und damit ohne Beschädi-gungsgefahr und ohne den mit einer solchen Umlagerung verbundenen Zeitver-lust - Messwerte anfallen, aus denen eine Kantenposition im Maskenkoordinaten-system direkt mitbestimmt wird (Fig. 5) oder aus der Winkellage Ĭ durch einfache Umrechnungen ermittelbar ist (Fig. 4 m.d. zugeh. Text), stellt sich dem Fachmann in der Praxis noch die in der Streitpatentschrift (Abs. [0009]) angegebene Teilauf-gabe, die Pattern Centrality mit höherer Genauigkeit zu bestimmen.Zwar mag der Fachmann allein aus seinem Fachwissen heraus daran denken, die Erfassung der Messtisch-Verschiebung interferometrisch zu messen, wie Merk-mal b1) vorschreibt. Jedoch fehlt dem Fachmann im Stand der Technik ein Hin-weis darauf, dieses Problem mit einer zusätzlichen, in das bekannte bildgebende Koordinatenmessgerät zu integrierenden lichtoptischen Kontrastmessung gemäß den Merkmalen g) und h) zu lösen.- 16 -Die EP 0 096 224 B1 selbst enthält keinen diesbezüglichen Hinweis für den Fach-mann; denn mit der Maskenpositionierung in der Ecke einer rechtwinkligen Anla-gefläche (Fig. 5) oder der unter Verwendung der Zentrumskoordinaten der beiden Ausrichtfelder 42, 43 vorgenommenen Umrechnung eine Schräglage (Fig. 4, Sp. 4 Z. 31 bis Sp. 5 Z. 5) können die Kantenkoordinaten jederzeit herausgerechnet werden, was dort aber nicht vorgesehen und für den Fachmann auch aus seinem Fachwissen heraus nicht ohne Weiteres als vorteilhaft für eine gesteigerte Ge-nauigkeit des bekannten Verfahrens ersichtlich ist.Auch fehlt dem Fachmann nach Ansicht des Senats jeder Anlass, zur Erzielung ei-ner gesteigerten Genauigkeit des aus der EP 0 096 224 B1 bekannten Verfahrens die EP 0 105 661 B1 heranzuziehen. Denn dort sind - wie im Zusammenhang mit der Neuheit vorstehend dargelegt - die Kantenkoordinaten gar kein Thema.Die theoretische Möglichkeit, mit dem darin beschriebenen Verfahren Kantenkoor-dinaten messen zu können, reicht nach Ansicht des Senats nicht aus, dass der Fachmann die EP 0 105 661 B1 überhaupt näher in Betracht zieht zur Steigerung der Genauigkeit.Der Einsprechenden ist zwar zuzustimmen darin, dass der geltende Patentan-spruch 1 offenlässt, was mit den ermittelten Kantenkoordinaten geschieht. Darauf kommt es aber nicht an, wenn in dieser Druckschrift schon jeder Hinweis fehlt, die-se überhaupt zu ermitteln.Zwar mag dem für die Entwicklung von Strukturmessverfahren an Masken zustän-dige Fachmann das in der US 5 497 007 beschriebene Wafermessverfahren aus der Praxis bekannt sein, wie die Einsprechende vorgetragen hat. Jedoch befasst sich diese Druckschrift nicht mit der Erhöhung der Genauigkeit einer Messung von Strukturen, sondern lediglich mit der Bereitstellung eines Waferkoordinatensys-tems durch Vermessung von Punkten am Waferumfang. Diese Punkte am Wafer-umfang bilden aber lediglich den Ausgangspunkt des Koordinatensystems, so - 17 -dass dem Fachmann jeder Hinweis fehlt, bei der Messung von Strukturen auf ei-nem Träger die Lage der Kante als weitere Rechengröße zu verwenden und hier-zu gesondert zu ermitteln mittels eines optischen Verfahrens mit sichtbarem Licht, wie der Anspruch 1 in den Merkmalen g) und h) vorschreibt. Ein Hinweis auf eine solche gesonderte Messung der Kantenkoordinaten ist auch an den seitens der Einsprechenden zahlreich benannten Stellen der dortigen Beschreibung nicht ent-nehmbar.Dass es bei dem in US 5 497 007 beschriebenen Verfahren im Ergebnis - wie beim Streitpatent auch - um eine Inspektion geht (nämlich der Detektion von Parti-keln auf dem Wafer, vgl. Sp. 1 Z. 8 bis Sp. 2 Z. 9), lässt den Fachmann - entgegen dem Vortrag der Einsprechenden - noch nicht daran denken, ausgehend von die-ser Druckschrift ein Verfahren zur Messung von Strukturkoordinaten und Kanten-koordinaten auf einem einzigen Messgerät anzugeben. Dass die Bestimmung der Kantenlage mit der Ausnutzung des Kantenkontrastes (vgl. dort Fig. 8 m.d. zugeh. Text) arbeitet, der auch bei dem anspruchsgemäßen lichtoptischen Verfahren ge-mäß Merkmalen g) und h) genutzt und in Figur 4 der Streitpatentschrift ebenfalls innerhalb eines Messfensters beobachtet wird, kann zu keiner anderen Beurtei-lung führen.Eine von der Einsprechenden als Anlass zur Heranziehung der US 5 497 007 be-nannte unzureichende Kantenerfassung bei dem aus der EP 0 096 224 B1 be-kanten Verfahren erschließt sich dem Fachmann nach Ansicht des Senats nicht ohne rückschauende Betrachtung in Kenntnis der Erfindung. Denn die dort ledig-lich implizit anfallenden, jedoch nicht explizit in Bezug zu den Strukturkoordinaten gebrachten Kantenkoordinaten fallen dem Fachmann gar nicht als beachtenswert ins Auge.- 18 -Auch ausgehend von der EP 0 105 661 B1 gelangt der Fachmann nicht ohne er-finderisches Tun zum Verfahren gemäß dem geltenden Anspruch 1. Der Senat kann sich dem Vortrag der Einsprechenden, diese Druckschrift sei auch ohne ex-plizite Angaben zur Kantenkoordinaten-Bestimmung eine vollwertige Entgegenhal-tung im Blick auf den nun geltenden Anspruch 1, nicht anschließen. Denn wie im Zusammenhang mit der Neuheit des Anspruchsgegenstandes gegenüber dieser Druckschrift dargelegt, ist eine Ermittlung und Abspeicherung des Kantenkoordi-naten dem Fachmann dort nicht offenbart. Darüber hinaus fehlt ihm auch ein Hin-weis, dass die Kantenkoordinaten für eine genaue Messung von Maskenstruktu-ren von Bedeutung sein könnten.Der Senat ist nach alledem zur Überzeugung gelangt, dass weder der Stand der Technik noch das allgemeine Fachwissen dem Fachmann Anregungen vermitteln konnte, mit denen er ohne erfinderisch tätig zu werden das im geltenden An-spruch 1 angegebene Verfahren zur Messung von Strukturen angeben konnte.7. Mit dem geltenden Patentanspruch 1 hat das Streitpatent auch im Umfang der auf diesen direkt oder indirekt rückbezogenen Unteransprüche Bestand.Bertl Dr. Kaminski Kirschneck GroßPü
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