21 W (pat) 19/12  - 21. Senat (Techn.Beschw.)

BPatG 154 05.11 BUNDESPATENTGERICHT 21 W (pat) 19/12 _______________ (Aktenzeichen) Verkündet am 14. August 2014 … B E S C H L U S S In der Beschwerdesache betreffend die Patentanmeldung 10 2006 015 641.2 … hat der 21. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf-grund der mündlichen Verhandlung vom 14. August 2014 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters Dipl.-Phys. Dr. Häußler sowie des Richters Dipl.-Ing. Veit, der Richterin Dipl.-Phys. Zimmerer und des Richters Heimen - 2 - beschlossen: Der Beschluss der Prüfungsstelle für Klasse H 05 G vom 25. Fe-bruar 2011 wird aufgehoben und die Sache wird zur erneuten Entscheidung in der Sache zurückverwiesen. G r ü n d e I Die Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 10 2006 015 641.2 wurde am 31. März 2006 unter der Bezeichnung "Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung" beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet. Die Veröffentlichung der Patent-erteilung erfolgte am 11. Oktober 2007. Im Prüfungsverfahren sind folgende Druckschriften genannt: D1 WO 2005/101 924 A1 D2 DE 10 2004 005 241 B4 In der Beschreibungseinleitung ist weiter die Druckschrift WO 2005/025280 A2 erwähnt. Die Prüfungsstelle für Klasse H 05 G hat die Anmeldung mit Beschluss vom 25. Februar 2011 zurückgewiesen, da der Gegenstand des Patentanspruchs 1 nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit beruhe. - 3 - Gegen diesen Beschluss richtet sich die Beschwerde der Anmelderin, die ihr Pa-tentbegehren auf Grundlage der in der mündlichen Verhandlung von 14. Au-gust 2014 überreichten Patentansprüche weiterverfolgt. Die Anmelderin beantragt auf der Grundlage folgender Unterlagen das Patent zu erteilen: Ansprüche 1 bis 15, überreicht in der mündlichen Verhandlung vom 14. August 2014, sowie die Rückerstattung der Beschwerdegebühr anzuordnen. Der geltende Patentanspruch 1 lautet (Merkmalsgliederung hinzugefügt): M1 Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung, enthaltend M2 eine Entladungskammer, M2.1 die einen Entladungsbereich für eine Gasentladung zur Ausbildung eines die Strahlung abgebenden Plasmas aufweist, M3 eine erste und eine zweite scheibenförmige Elektrode, M3.1 wobei mindestens eine der Elektroden drehbar gelagert ist und M3.2 einen mit einer metallischen Schmelze zu bedeckenden Randbereich auf-weist, M4 eine Energiestrahlquelle zur Bereitstellung eines Vorionisationsstrahls und M5 einen mit den Elektroden verbundenen Entladungsschaltkreis zur Erzeu-gung von Hochspannungsimpulsen, wobei M6 der zu bedeckende Randbereich mindestens einen entlang des Elektro-denrandes auf der Elektrodenoberfläche geschlossen umlaufenden und für die metallische Schmelze benetzend ausgebildeten Aufnahmebe-reich (3) aufweist, - 4 - M7 auf den eine Fluidabgabedüse (4, 11, 20) zum regenerativen Auftragen der metallischen Schmelze in Form eines Fluidstrahls (5) gerichtet ist, M8 die Elektroden (1, 9) als Kreisscheiben ausgebildet, mit gegenseitigem Ab-stand starr miteinander verbunden und um eine gemeinsame, mit deren mittleren Symmetrieachsen zusammenfallende Rotationsachse (R-R) drehbar gelagert sind, M9 wobei jede der Elektroden (1, 9) auf einander zugewandten Elektroden-oberflächen den mindestens einen für die metallische Schmelze benet-zend ausgebildeten Aufnahmebereich (3) enthält, auf den eine Fluidab-gabedüse (4, 11) gerichtet ist M10 in dem für die Aufbringung der metallischen Schmelze vorgesehenen Elek-trodenbereich ein scheibenförmiger Isolationskörper (13) vorgesehen ist, der in den Zwischenraum zwischen den beiden Elektroden (1, 9) ein-taucht, und M11 die auf die Elektrodenoberflächen der beiden Elektroden (1, 9) gerichteten Fluidabgabedüsen (4, 11) von entgegengesetzten Seiten durch den Isola-tionskörper (13) hindurchgeführt sind. Der geltende, nebengeordnete Patentanspruch 5 lautet (Merkmalsgliederung hinzugefügt): M1 Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung, enthaltend M2 eine Entladungskammer, M2.1 die einen Entladungsbereich für eine Gasentladung zur Ausbildung eines die Strahlung abgebenden Plasmas aufweist, M3 eine erste und eine zweite scheibenförmige Elektrode, M3.1 wobei mindestens eine der Elektroden drehbar gelagert ist und M3.2 einen mit einer metallischen Schmelze zu bedeckenden Randbereich auf-weist, M4 eine Energiestrahlquelle zur Bereitstellung eines Vorionisationsstrahls und - 5 - M5 einen mit den Elektroden verbundenen Entladungsschaltkreis zur Erzeu-gung von Hochspannungsimpulsen, wobei M6 der zu bedeckende Randbereich mindestens einen entlang des Elektro-denrandes auf der Elektrodenoberfläche geschlossen umlaufenden und für die metallische Schmelze benetzend ausgebildeten Aufnahmebe-reich (3) aufweist, M7 auf den eine Fluidabgabedüse (4, 11, 20) zum regenerativen Auftragen der metallischen Schmelze in Form eines Fluidstrahls gerichtet ist, und N8 die erste Elektrode (14) um eine mit ihrer mittleren Symmetrieachse zu-sammenfallenden Rotationsachse (R'-R') drehbar gelagert und die zweite Elektrode (15) feststehend ausgebildet ist, N9 und die drehbar gelagerte erste Elektrode (14) einen kleineren Durchmes-ser als die feststehende zweite Elektrode (15) aufweist sowie N10 außeraxial in eine Aussparung (16) der zweiten Elektrode (15) eingelassen ist, N11 wobei die Fluidabgabedüse (20) durch eine Öffnung (19) in der Ausspa-rung auf den mindestens einen, für das Emittermaterial benetzend ausge-bildeten Aufnahmebereich (3) auf der Elektrodenoberfläche der ersten Elektrode (14) gerichtet ist. Wegen der Unteransprüche und weiterer Einzelheiten wird auf den Akteninhalt Bezug genommen. II Die zulässige Beschwerde hat insoweit Erfolg, als sie zur Aufhebung des ange-fochtenen Beschlusses und zur Zurückverweisung zur weiteren Prüfung auf Basis der in der mündlichen Verhandlung vom 14. August 2014 eingereichten Patentan-- 6 - sprüche an das Deutsche Patent- und Markenamt führt (§ 79 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 PatG). 1. Die Patentansprüche 1 bis 15 sind zulässig, da ihre Merkmale in den ursprüng-lichen Anmeldeunterlagen jeweils als zur Erfindung gehörend offenbart sind. Der Patentanspruch 1 stützt sich auf den ursprünglichen Patentanspruch 1, der mittels der Beschreibung S.7 zweiter Absatz hinsichtlich des Fluidstrahls präzisiert wurde, und die ursprünglichen Patentansprüche 3 bis 5. Die Patentansprüche 2 bis 15 entsprechen den ursprünglichen Patentansprü-chen 2, 6, 7, 8 bis 18, wobei im neuen Anspruch 8 der Rückbezug verallgemeinert wurde. Dies ist ebenfalls der ursprünglichen Beschreibung eindeutig und unmittel-bar als zur Erfindung gehörig zu entnehmen und daher nicht zu beanstanden. 2. Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung mit einer Entladungs-kammer, die einen Entladungsbereich für eine Gasentladung zur Ausbildung eines die Strahlung abgebenden Plasmas aufweist, einer ersten und einer zweiten scheibenförmigen Elektrode, wobei mindestens eine der Elektroden drehbar gela-gert ist und einen mit einer metallischen Schmelze zu bedeckenden Randbereich aufweist, einer Energiestrahlquelle zur Bereitstellung eines Vorionisationsstrahls und mit einem, mit den Elektroden verbundenen Entladungsschaltkreis zur Erzeu-gung von Hochspannungsimpulsen (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0001]). Bei der EUV-Projektionslithographie haben sich nach der Beschreibungseinleitung Drehelektroden als viel versprechende Lösung zur deutlichen Steigerung der Lebensdauer von Gasentladungsquellen herausgestellt. Vorteile bestünden darin, dass diese insbesondere scheibenförmig ausgebildeten Elektroden zum einen besser gekühlt werden können. Zum anderen könne die Limitation der Lebens-dauer aufgrund der unvermeidbaren Elektrodenerosion mittels einer ständig er-- 7 - neuerten Elektrodenoberfläche aufgehoben werden (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0002]). Eine vorbekannte Vorrichtung gemäß der WO 2005/025280 A2 nutze rotierende Elektroden, die in einen Behälter mit einer Metallschmelze eintauchen. Das auf die Elektrodenoberfläche aufgetragene Metall wird mittels Laserstrahlung verdampft, wonach der Dampf durch eine Gasentladung zu einem Plasma gezündet wird (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0003]). Von Nachteil an dieser technischen Lösung sei vor allem, dass sich eine ge-wünschte Schichtdicke des aufgetragenen Materials nur schwer einstellen lässt und dass einerseits ab gewissen Drehzahlen beim teilweisen Eintauchen der scheibenförmig ausgebildeten Elektroden in die Metallschmelze Spritzer und Materialtransport aus dem Bad auftreten (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0005]). Andererseits führe eine zu geringe Rotationsgeschwindigkeit zu einer zu lang-samen Nachführung eines unverbrauchten Elektrodenabschnittes in den Entla-dungsbereich und damit zu Instabilitäten der Plasmaerzeugung (siehe Offen-legungsschrift Abs. [0006]). Vor diesem Hintergrund liegt der vorliegenden Erfindung die in der Patentanmel-dung angegebene Aufgabe zugrunde, eine Verbesserung der Schichtdickenein-stellung beim Aufbringen einer metallischen Schmelze auf die Elektrodenober-flächen zu erreichen und die mit einer Erhöhung der Rotationsgeschwindigkeit der Elektroden verbundene unkontrollierte Ausbreitung der metallischen Schmelze in der Umgebung besser zu verhindern. Die Rotationsgeschwindigkeit soll insbeson-dere soweit erhöht werden können, dass bei Repetitionsfrequenzen von mehreren Kilohertz stets unverbrauchte Entladungsgebiete der Elektroden sich im Entla-dungsbereich befinden (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0008]). 3. Die Lösung der Aufgabe wird erfindungsgemäß u. a. dadurch erreicht, dass der zu bedeckende Randbereich mindestens einen entlang des Elektrodenrandes auf - 8 - der Elektrodenoberfläche geschlossen umlaufenden und für die metallische Schmelze benetzend ausgebildeten Aufnahmebereich aufweist, auf den eine Fluidabgabedüse zum regenerativen Auftragen der metallischen Schmelze gerich-tet ist. Die nebenstehende Figur 1 aus der Patentanmeldung zeigt das er-findungsgemäße Prinzip des Auf-bringens einer definierten dünnen Schicht einer metallischen Schmelze entlang einer Spur (Aufnahmebe-reich 3) auf einer rotierenden Elektro-denoberfläche (Elektrode 1) mittels Fluidabgabedüse (4). 4. Die Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung nach Patentanspruch 1 ist gegenüber dem im Verfahren befindlichen Stand der Technik neu und beruht auch auf einer erfin-derischen Tätigkeit des Fachmanns, eines Diplom-Physiker mit mehrjähriger Be-rufserfahrung in der Entwicklung von EUV-Vorrichtungen. Die Neuheit des Gegenstands nach Anspruch 1 ist gegeben, da keine der im Ver-fahren befindlichen Druckschriften alle Merkmale der Vorrichtung nach Anspruch 1 zeigt, wie die nachfolgenden Ausführungen belegen. Die nächstliegende Druckschrift D1 offenbart eine Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung (EUV) mittels einer elektrisch betriebenen Gasent-ladung (vgl. D1 S.1 Z.13-15: „The invention relates to a device and a method for obtaining primarily extreme ultraviolet (EUV) radiation from a dense, hot plasma of pinch-type discharges“) [= Merkmal M1]. Diese enthält eine Entladungskammer (discharge chamber 9), die einen Entla-dungsbereich (discharge zone) für eine Gasentladung zur Ausbildung eines die - 9 - Strahlung abgebenden Plasmas aufweist (vgl. D1 S.7 Z.23-29: „Electrodes 1, 2 are accommodated in the discharge chamber 9. In proximity to the discharge zone, whose location is determined by the focus of the beam from the vapor channel formation device 5, a blade 10 is mounted, which prevents working substance vapors and discharge plasma ions from spreading into the EUV radiation discharge area.“, Fig. 1) [= Merkmale M2 und M2.1]. Weiter ist eine erste und eine zweite scheibenförmige Elektrode (electrodes 2, 3) vorhanden (vgl. D1 S. 7 Z. 2-4: „The EUV source contains electrodes 2, 3 … designed as disk-shaped elements whose central axes of symmetry overlap the shaft axis“, Fig. 1) [= Merkmal M3], wobei zumindest eine Elektrode drehbar gelagert ist (vgl. D1 S. 7 Z. 2-3, Z.23-23: „rotating electrodes“) [= Merkmal M3.1] und einen mit einer metallischen Schmelze zu bedeckenden Randbereich aufweist (vgl. D1 S. 7 Z. 10-11: „the layer 4 of low-melting metal covering the peripheral part of the surface of the electrode 3“, Fig. 1) [= Merkmal M3.2]. Dabei sind die - 10 - Elektroden (2, 3) als Kreisscheiben ausgebildet, mit gegenseitigem Abstand starr miteinander verbunden und um eine gemeinsame, mit deren mittleren Sym-metrieachsen zusammenfallende Rotationsachse (R-R) drehbar gelagert (vgl. D1 S. 3 Z. 25: „with rotating electrodes rigidly secured to the shaft”, Fig. 1) [= Merk-mal M8]. Weiter wird zur Bereitstellung eines Vorionisationsstrahls eine Energiestrahlquelle (device 5 for forming a vapor channel) und zur Erzeugung von Hochspannungs-impulsen ein mit den Elektroden verbundener Entladungsschaltkreis verwendet (vgl. D1 S. 7 Z. 14-15: „The pulse supply source 6 is connected to the electrodes 2, 3“, Fig. 1) [= Merkmale M4 und M5]. Der Fachmann liest aufgrund der Rotation und der kontinuierlichen Benetzung mit, dass der mit einer metallischen Schmelze zu bedeckende Randbereich nach Merkmal M3.2 geschlossen umlaufend ist. Dieser Randbereich stellt auch den Aufnahmebereich gemäß Merkmal M6 dar, der durch den Anspruch 1 nicht näher definiert ist. Dieser Aufnahmebereich ist auch nicht auf die in der Patentan-meldung genannten Materialien (S. 6 erster Absatz: „beispielsweise aus Kupfer, Chrom, Nickel, oder Gold“) eingeschränkt. Entgegen der Ausführungen der Pa-tentanmelderin ergibt sich damit das Merkmal M6, da das aufgetragene Metall bei der bekannten Vorrichtung auch auf dem Aufnahmebereich anhaften und eine Schicht (layer) bilden soll. Auf diesen Aufnahmebereich ist die Vorrichtung (system 13 for supplying low-melting metal) zum regenerativen Auftragen der metallischen Schmelze gerichtet (vgl. D1 Fig. 1). Für das in Figur 1 offenbarte Ausführungsbeispiel ist diese Vorrichtung (13) nicht näher definiert. Im in Figur 2 dargestellten Ausführungsbeispiel werden als Bei-spiele eine Zinnbeschichtung durch Eintauchen in ein Bad („tinning“), Metalli-sierung („metallizing“) oder Aufbringen mittels hydraulischen Befüllen („hydraulic filling of porous structures“) genannt (vgl. D1 S. 8 Z. 10-14: „The system 13 is - 11 - used for supplying low-melting metal on the surface of electrodes 2, 3 based on one of following methods: tinning (wetting), metallizing, hydraulic filling of porous structures incorporated in the electrode material.“). Der Fachmann könnte diese Verfahren auch für die Vorrichtung nach Figur 1 ver-wenden, er ist darauf jedoch nicht eingeschränkt. Bei der Realisierung der Vorrich-tung zum Auftragen der metallischen Schmelze wird er auch Methoden in Betracht ziehen, die ihm aus seinem Fachwissen und dem Fachgebiet bekannt sind. Gehört eine technische Lösung als ein generelles, für eine Vielzahl von Anwen-dungsfällen in Betracht zu ziehendes Mittel ihrer Art nach zum allgemeinen Fach-wissen des angesprochenen Ingenieurs, kann eine Veranlassung zu ihrer Heran-ziehung bereits dann bestehen, wenn sich die Nutzung ihrer Funktionalität in dem zu beurteilenden Zusammenhang als objektiv zweckmäßig darstellt und keine besonderen Umstände feststellbar sind, die eine Anwendung aus fachlicher Sicht als nicht möglich, mit Schwierigkeiten verbunden oder sonst untunlich erscheinen lassen (BGH-Farbversorgungssystem, Urteil vom 11. März 2014, X ZR 139/10). Dies ist vorliegend der Fall, da die Verwendung einer Fluidabgabedüse zum Zuführen eines flüssigen Metalls zum allgemeinen Fachwissen des zuständigen Fachmanns im Sinne eines "Standardrepertoires" zählt. Es erscheint auch nicht mit besonderen Schwierigkeiten verbunden, eine Düse zum Einbringen von Metall in einer EUV-Vorrichtung zu verwenden, da dies aus der Druckschrift D2 bekannt ist. Unbestritten ist aus der Druckschrift D2 bekannt, einen Targetstrom mittels einer Injektionsdüse zu einem Reaktionsort zu liefern. Auch diese Vorrichtung wird der Fachmann in Betracht ziehen, da er - obwohl kei-ne rotierenden Elektroden vorhanden sind und damit das Zuführen nicht zur Beschichtung sondern als Targetstrom verwendet wird – ebenfalls Lösungen bei der Realisierung des Zuführens einer Metallschmelze zu erwarten sind. Bei der Übertragung dieser Standardlösung des Auftragens mittels Düse auf die Vorrichtung nach der Druckschrift D1 wird der Fachmann daher im Rahmen - 12 - fachmännischen Handelns die Vorrichtung (13) in der Druckschrift D1 als Fluidab-gabedüse ausbilden [= Merkmal M7]. Die Fluidabgabe-Vorrichtung (13) nach der Druckschrift D1 ist nach Fig. 1 nur auf eine Elektrode gerichtet. Es liegt jedoch im fachmännischen Handeln, eben-falls – analog zum Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 beide Elektroden mit der metallischen Schmelze zu benetzen und Fluidabgabedüsen hierauf zu richten [= Merkmal M9]. Dabei ist es noch dem fachmännischen Handeln zuzuordnen, einen scheibenför-migen Isolationskörper vorzusehen, der in den Zwischenraum zwischen den bei-den Elektroden eintaucht, um Kurzschluss zu vermeiden [Merkmal M10] – auch in der Vorrichtung nach der Druckschrift D1 sind die Elektroden mittels einem Bauteil (vgl. Fig. 1) getrennt. Jedoch ergibt sich aus dem im Verfahren befindlichen Stand der Technik keine Veranlassung Fluiddüsen vorzusehen, die auf die Elektroden-oberflächen der beiden Elektroden (2, 3) von entgegengesetzten Seiten gerichtet sind und die von entgegengesetzten Seiten durch den scheibenförmiger Isola-tionskörper (13) hindurchgeführt werden [Merkmal M11]. Der Fachmann hatte auch aufgrund seines Fachkönnens und Fachwissens oder aus der weiteren im Verfahren befindlichen Druckschrift D2 keine Anregung zur Ausbildung der Vorrichtung nach Merkmal M11. Der Gegenstand des Patentanspruchs 1 ist somit gegenüber dem im Verfahren befindlichen Stand der Technik patentfähig. 5. Das Verfahren ist noch nicht zur Entscheidung reif und die Anmeldung zur wei-teren Prüfung an das Patentamt zurückzuverweisen. § 79 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 PatG bestimmt, dass das Patentgericht die angefochtene Entscheidung aufheben kann, ohne in der Sache selbst zu entscheiden, wenn das - 13 - Patentamt noch nicht in der Sache selbst entschieden hat. Diese Voraussetzun-gen liegen vor, wenn die Mängel, die der angefochtenen Entscheidung zugrunde liegen, beseitigt wurden, danach aber eine neue Sachprüfung erforderlich ist. Die Anmeldung kann an das Patentamt zurückverwiesen werden, wenn die Patentfä-higkeit des nunmehr Beanspruchten noch nicht Gegenstand der Prüfung war (vgl. Busse PatG, 6. Aufl. § 79 Rdn. 64 und 65; Schulte PatG, 8. Aufl. § 79 Rdn. 25 bis 27 – jeweils mit weiteren Hinweisen). Dies ist vorliegend der Fall. Die Merkmale des geltenden, nebengeordneten An-spruchs 5 haben ersichtlich im bisherigen Prüfungsverfahren noch keine Rolle ge-spielt. Die Prüfungsstelle hat im bisherigen Prüfungsverfahren noch keinen Stand der Technik ermittelt, auf dessen Grundlage eine merkmalsbezogene Sachprüfung des Gegenstandes nach Anspruch 5 erfolgen könnte. Da die Recherche insoweit lediglich als vorläufig anzusehen ist, ist nicht auszu-schließen, dass bei einer somit erforderlichen Nachrecherche bezüglich der Merk-male im nebengeordneten Anspruch 5 noch entscheidungserheblicher Stand der Technik ermittelt wird. 6. Die von der Anmelderin beantragte Rückzahlung der Beschwerdegebühr war nicht anzuordnen. Die Rückzahlung der Beschwerdegebühr ist anzuordnen, wenn dies der Billigkeit entspricht. Maßgebend dafür sind alle Umstände des Falles, insbesondere das Verhalten der Beteiligten und die Sachbehandlung durch das Deutsche Patent- und Markenamt unter dem Gesichtspunkt der Ordnungsmäßigkeit und der Ange-messenheit seiner Maßnahmen. Auch die Ablehnung einer von einem Anmelder beantragten Anhörung kann einen die Rückzahlung der Beschwerdegebühr rechtfertigenden Verfahrensverstoß darstellen. Dabei rechtfertigt nicht jeder Ver-fahrensfehler die Rückzahlung. Diese ist vielmehr nur dann billig, wenn ein schwerwiegender Verstoß vorliegt oder wenn der Verfahrensfehler für die Erhe-- 14 - bung der Beschwerde ursächlich war (BPatG München, Beschluss vom 22. März 2012 – 8 W (pat) 4/11). Im vorliegenden Fall hat die Prüfungsstelle im Bescheid vom 12. Dezember 2006 der Patentanmelderin die negative Beurteilung zur erfinderischen Tätigkeit umfas-send begründet und mitgeteilt, dass bei dieser Sachlage eine Patenterteilung nicht in Aussicht gestellt werden kann. Im Schriftsatz vom 16. Mai 2007 legte die Patentanmelderin Ihre Gegenauffassung zu den Argumenten der Prüfungsstelle substantiiert dar. Diese führte nicht zur Änderung der Auffassung der Prüfungs-stelle, lediglich bezüglich des Merkmals M6 erfolgt eine Änderung hinsichtlich der expliziten Offenbarung (im Zurückweisungsbeschluss nunmehr eine implizite Offenbarung). Dies ist jedoch nicht als entscheidungserheblicher Grund zu sehen, zu dem sich die Anmelderin nicht äußern konnte. Die Prüfungsstelle setzte sich auch ersichtlich mit der Argumentation der Patentanmelderin auseinander (siehe Zurückweisungsbeschluss S. 3 Abs. 2: Ausführungen zur Argumentation der Patentanmelderin bezüglich des „Aufnahmebereichs“, S. 3 Abs. 3: Ausführungen zur Argumentation der Patentanmelderin bezüglich des „Schmelzbads“, S. 4 Abs. 2: Ausführungen zur Argumentation der Patentanmelderin bezüglich des „Heranziehen der Druckschrift D2“). Zwar hätte die Prüfungsstelle Ihre unveränderte Auffassung auch in einem weite-ren Prüfbescheid oder einer Anhörung darlegen können. Jedoch konnte die Prüfungsstelle nicht annehmen, dass die Anmelderin in einer mündlichen Anhö-rung ihr Patentbegehren gegenüber dem offenkundig patenthindernden Stand der Technik einschränken würde oder weitere Argumente vorbringen würde. Einen Antrag auf Anhörung wurde von der Anmelderin, auch hilfsweise, nicht gestellt. Damit ist kein schwerwiegender Verfahrensfehler ersichtlich, der die Rückzahlung der Beschwerdegebühr als billig erscheinen lässt. - 15 - Da der Senat auch sonst kein rechtsfehlerhaftes Vorgehen der Prüfungsstelle erkennen kann, gibt es keinen Grund, der eine Rückzahlung aus Billigkeits-gründen rechtfertigen würde. III Rechtsmittelbelehrung Gegen diesen Beschluss ist für jede am Beschwerdeverfahren beteiligte Person das Rechtsmittel der Rechtsbeschwerde gegeben, wenn gerügt wird, dass 1. das beschließende Gericht nicht vorschriftsmäßig besetzt war, 2. bei dem Beschluss ein Richter mitgewirkt hat, der von der Ausübung des Richteramtes kraft Gesetzes ausgeschlossen oder wegen Besorgnis der Befangenheit mit Erfolg abgelehnt war, 3. einem Beteiligten das rechtliche Gehör versagt war, 4. ein Beteiligter im Verfahren nicht nach Vorschrift des Gesetzes vertreten war, sofern er nicht der Führung des Verfahrens ausdrücklich oder stillschweigend zugestimmt hat, 5. der Beschluss aufgrund einer mündlichen Verhandlung ergangen ist, bei der die Vorschriften über die Öffentlichkeit des Verfahrens verletzt worden sind, oder 6. der Beschluss nicht mit Gründen versehen ist. Die Rechtsbeschwerdeschrift muss von einer beim Bundesgerichtshof zuge-lassenen Rechtsanwältin oder von einem beim Bundesgerichtshof zugelassenen Rechtsanwalt unterzeichnet und innerhalb eines Monats nach Zustellung des Beschlusses beim Bundesgerichtshof, Herrenstraße 45a, 76133 Karlsruhe ein- - 16 - gereicht werden. Die Frist ist nur gewahrt, wenn die Rechtsbeschwerde vor Frist-ablauf beim Bundesgerichtshof eingeht. Die Frist kann nicht verlängert werden. Dr. Häußler Veit Zimmerer Heimen Ko

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