21 W (pat) 19/13  - 21. Senat (Techn.Beschw.)

BPatG 152 08.05 BUNDESPATENTGERICHT 21 W (pat) 19/13 _______________________ (Aktenzeichen) B E S C H L U S S In der Beschwerdesache betreffend die Patentanmeldung 10 2007 046 367.9-54 … hat der 21. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts am 24. Februar 2014 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters Dipl.-Phys. Dr. Häußler, der Richterin Hartlieb, des Richters Dipl.-Phys. Dr. Müller und der Richterin Dipl.-Phys. Zimmerer - 2 - beschlossen: Auf die Beschwerde der Anmelderin wird der Beschluss der Prü-fungsstelle für Klasse H 01 J des Deutschen Patent- und Marken-amts vom 14. Dezember 2011 aufgehoben und das Patent 10 2007 046 367 erteilt. Bezeichnung: Diagnose- und Kalibrierungs-System für ICP-MS-Vorrichtung Anmeldetag: 27. September 2007 Priorität: JP 2006/295462 (31. Oktober 2006). Der Erteilung liegen folgende Unterlagen zugrunde: Patentansprüche 1 bis 12, eingegangen mit Schriftsatz vom 20. Januar 2012 Beschreibung gemäß Offenlegungsschrift Figuren 1 bis 8 gemäß Offenlegungsschrift. G r ü n d e I Die Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 10 2007 046 367.9 wurde am 27. September 2007 unter Inanspruchnahme der japanischen Priorität JP 2006/295462 (31. Oktober 2006) mit der Bezeichnung „Diagnose- und Kalibrie-rungs-System für ICP-MS-Vorrichtung“ von der A…, Inc. (n. d. Ges. d. Staates Delaware), Santa Clara, US, beim Deutschen Patent- und Mar-kenamt eingereicht. Die Veröffentlichung der Patentanmeldung erfolgte am 15. Mai 2008. - 3 - Die Prüfungsstelle für Klasse H 01 J hat die Anmeldung in der Anhörung vom 14. Dezember 2011 unter Verweis auf § 34 Abs. 4 PatG zurückgewiesen, da das Diagnosesystem gemäß Patentanspruch 1 in der Anmeldung nicht so deutlich und vollständig offenbart sei, dass der Fachmann es ausführen könne. Im Prüfungsverfahren sind folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden: D1 DE 10 2007 032 176 A1 (nachveröffentlicht) D2 US 5 334 834 A D3 US 5 185 523 A. Gegen den Beschluss der Prüfungsstelle richtet sich die Beschwerde der Anmel-derin vom 20. Januar 2012, die sinngemäß beantragt, den Beschluss der Prüfungsstelle H 01 J vom 14. Dezember 2011 aufzuheben und ein Patent auf der Grundlage der beigelegten Un-terlagen zu erteilen, sinngemäß mit folgenden Unterlagen Ansprüche 1 bis 12, gemäß Schriftsatz vom 20. Januar 2012, Beschreibung S. 1 bis 35, gemäß ursprünglichen Unterlagen, Figuren 1 bis 8, gemäß ursprünglichen Unterlagen, hilfsweise wird mündliche Verhandlung beantragt. Im Beschwerdeverfahren verwies die Anmelderin auf folgende Druckschriften: A1 Akbar Montaser: „Inductively Coupled Plasma Mass Spectro-metry“, Wiley, 1998, S. 957, 18-24, 165, 167, 368-376, 525-531, 533-535, 655, 854-865 A2 Grenville Holland, Scott D. Tanner: „Plasma Source Mass Spectrometry“, RS.C, 2003, S. 54-65 - 4 - A3 Sergei F. Boulyga et. al.: „Optimisation and application of ICP-MS and alpha-spectrometry for determination of isotopic ratios of depleted uranium and plutonium in samples collec-ted in Kosovo“, J. Annal. At. Spectrum, 2001, Vol. 16, S. 1283-1289 A4 Software Guide des ELAN 6000, 1996, S. 3-1 bis 3-53 A5 tuning report, 17. April 1997 A6 Spezifikation des „VG PlasmaQuad PQ2 Turbo ICP-MS“ von VG Instruments A7 Auszug aus dem Manual des „Agilent 7500 ICP-MS“, S. 4-39 bis 4-42, 2005 A8 Tune Report, 15. November 2005 A9 Tune Report, 30. Oktober 2001. Der mit Gliederungspunkten versehene, ansonsten wörtlich wiedergegebene gel-tende Patentanspruch 1 lautet: M1.1 Diagnosesystem zum Diagnostizieren der Vorrichtungsei-genschaften, die dem Plasmazustand eines induktiv gekop-pelten Plasmamassenspektrometers zugeordnet sind, M1.2 mit dem ein Aerosol, das Trägergas und Flüssigkeitstropfen aufweist, die eine Analyseprobe enthalten, in einen Plasma-brenner eingebracht wird, der in der Nähe einer Arbeitsspu-le angeordnet ist, die mit einer Hochfrequenzleistungsquelle verbunden ist, um Plasma zu erzeugen, auf solche Weise, dass es Ionen des Elements in dem Aerosol enthält, hin zu einer Schnittstelle, die eine Öffnung aufweist, derart, dass ermöglicht ist, dass ein Teil der Komponenten, die das Plasma bilden, durch die Öffnung passiert und in den Mas-seanalyseteil eingebracht wird, wobei das Diagnosesystem folgende Merkmale aufweist: - 5 - M2 eine Ansammlung aus Parameterkombinationen ist gespei-chert, was eine Ansammlung aus Kombinationen von Para-metern ist, M2.1 bestehend aus einem ersten Parameter zum Bestimmen der Ausgabe der Hochfrequenzleistungsquelle, einem zweiten Parameter zum Bestimmen der Flussrate des Trägergases in dem Aerosol und einem dritten Parameter zum Bestimmen der Distanz zwi-schen dem Plasmabrenner und der Schnittstelle, und M2.2 die ein spezifisches Array bildet, derart, dass Messpunkte, die den entsprechenden gespeicherten Kombinationen entsprechen, in Reihenfolge entlang der Richtung der Länge einer Hüllkurve angeordnet sind, die das Ende auf der Hochempfindlichkeitsseite eines Graphen bildet, der als eine Ansammlung aller Messpunkte auf ei-nem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen ge-zeichnet ist, M3 wobei das Diagnosesystem ausgebildet ist, um eine Dia-gnosemessung mit einer spezifischen Diagnoseprobe unter Verwendung des Parameterwerts jeder Kombination der Parameterkombinationen, die die Ansammlung bilden, aus-zuführen, derart, M3.1 dass die Vorrichtungseigenschaften aus der Position der tatsächlichen Messpunkte, die jeder Kombination entspre-chen, auf der Hüllkurve auf dem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen, bestätigt werden können, M4 wobei das Diagnosesystem ausgebildet ist, M4.1 um einen Messpunkt zu bestimmen, bei dem während der Diagnosemessung die Empfindlichkeit maximal ist, und - 6 - M4.2 basierend auf einem Vergleich der gemessenen Empfind-lichkeit an diesem Messpunkt mit einer maximalen Empfind-lichkeit der Messpunkte, die den entsprechenden gespei-cherten Kombinationen entsprechen, zu bestimmen, ob ei-ne Parameterkorrektur ausgeführt wird oder nicht. Der geltende nebengeordnete Patentanspruch 9 lautet: Kalibrierungssystem zum Kalibrieren der Vorrichtungseigenschaf-ten eines induktiv gekoppelten Plasmamassenspektrometers, das folgende Merkmale aufweist: ein Diagnosesystem zum Diagnostizieren der Vorrichtungseigen-schaften, die dem Plasmazustand eines induktiv gekoppelten Plasmamassenspektrometers zugeordnet sind, mit dem ein Aero-sol, das Trägergas und Flüssigkeitstropfen aufweist, die eine Ana-lyseprobe enthalten, in einen Plasmabrenner eingebracht wird, der in der Nähe einer Arbeitsspule angeordnet ist, die mit einer Hoch-frequenzleistungsquelle verbunden ist, um Plasma zu erzeugen, auf solche Weise, dass es Ionen des Elements in dem Aerosol enthält, hin zu einer Schnittstelle, die eine Öffnung aufweist, der-art, dass ermöglicht ist, dass ein Teil der Komponenten, die das Plasma bilden, durch die Öffnung passiert und in den Masseanaly-seteil eingebracht wird, wobei das Diagnosesystem folgende Merkmale aufweist: eine Ansammlung aus Parameterkombinationen ist gespeichert, was eine Ansammlung aus Kombinationen von Parametern ist, bestehend aus einem ersten Parameter zum Bestimmen der Aus-gabe der Hochfrequenzleistungsquelle, einem zweiten Parameter zum Bestimmen der Flussrate des Trägergases in dem Aerosol und einem dritten Parameter zum Bestimmen der Distanz zwi-schen dem Plasmabrenner und der Schnittstelle, und die ein spe-- 7 - zifisches Array bildet, derart, dass die Messpunkte, die den ent-sprechenden gespeicherten Kombinationen entsprechen, in Rei-henfolge entlang der Richtung der Länge einer Hüllkurve angeord-net sind, die das Ende auf der Hochempfindlichkeitsseite eines Graphen bildet, der als eine Ansammlung aller Messpunkte auf ei-nem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen gezeichnet ist, und wobei das Diagnosesystem ausgebildet ist, um eine Diagnose-messung mit einer spezifischen Diagnoseprobe unter Verwendung des Parameterwerts jeder Kombination der Parameterkombinatio-nen, die die Ansammlung bilden, auszuführen, derart, dass die Vorrichtungseigenschaften aus der Position der tatsächlichen Messpunkte, die jeder Kombination entsprechen, auf der Hüllkurve auf dem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen, bestätigt werden können, und wobei das Diagnosesystem eine Einrichtung zum Bestimmen der Position der Messpunkte auf der Hüllkurve auf dem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen aufweist, die jeder Kombination entsprechen, basierend auf den Koordina-ten der tatsächlichen Messpunkte, wenn die Empfindlichkeit auf ei-nem Maximum ist; und eine Kalibrierungseinrichtung (200), die ausgebildet ist, um einen Messpunkt vorauszuwählen, der einer spezifischen Kombination aus der Ansammlung von Parameterkombinationen entspricht, als den geschätzten Maximalempfindlichkeitspunkt, wo geschätzt wird, dass die Empfindlichkeit auf einem Maximum ist, und, wenn der geschätzte Maximalempfindlichkeitspunkt von dem tatsächli-chen Messpunkt abweicht, wo die Empfindlichkeit auf einem Maxi-mum ist, wie aus den Diagnoseergebnissen erkannt wird, zum Korrigieren jedes Parameterwerts von zumindest einigen der Pa-rameterkombinationen, die in der Ansammlung aus Parameter-kombinationen enthalten sind, durch eine spezifische Regel, der-- 8 - art, dass die maximale Empfindlichkeit an den Punkten erzeugt werden kann, die den geschätzten Maximalempfindlichkeitspunk-ten während der tatsächlichen Messung entsprechen. Der geltende nebengeordnete Patentanspruch 11 lautet: Kalibrierungssystem zum Kalibrieren der Vorrichtungseigenschaf-ten eines induktiv gekoppelten Plasmamassenspektrometers, dadurch gekennzeichnet, dass es folgende Merkmale aufweist: ein Diagnosesystem zum Diagnostizieren der Vorrichtungseigen-schaften, die dem Plasmazustand eines induktiv gekoppelten Plasmamassenspektrometers zugeordnet sind, mit dem ein Aero-sol, das Trägergas und Flüssigkeitstropfen aufweist, die eine Ana-lyseprobe enthalten, in einen Plasmabrenner eingebracht wird, der in der Nähe einer Arbeitsspule angeordnet ist, die mit einer Hoch-frequenzleistungsquelle verbunden ist, um Plasma zu erzeugen, auf solche Weise, dass es Ionen des Elements in dem Aerosol enthält, hin zu einer Schnittstelle, die eine Öffnung aufweist, der-art, dass ermöglicht ist, dass ein Teil der Komponenten, die das Plasma bilden, durch die Öffnung passiert und in den Masseanaly-seteil eingebracht wird, wobei das Diagnosesystem folgende Merkmale aufweist: eine Ansammlung aus Parameterkombinationen ist gespeichert, was eine Ansammlung aus Kombinationen von Parametern ist, bestehend aus einem ersten Parameter zum Bestimmen der Aus-gabe der Hochfrequenzleistungsquelle, einem zweiten Parameter zum Bestimmen der Flussrate des Trägergases in dem Aerosol und einem dritten Parameter zum Bestimmen der Distanz zwi-schen dem Plasmabrenner und der Schnittstelle, und die ein spe-zifisches Array bildet, derart, dass die gespeicherten Messpunkte, die den entsprechenden Kombinationen entsprechen, in Reihen-- 9 - folge entlang der Richtung der Länge einer Hüllkurve angeordnet sind, die das Ende auf der Hochempfindlichkeitsseite eines Gra-phen bildet, der als eine Ansammlung aller Messpunkte auf einem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen gezeichnet ist, und wobei das Diagnosesystem ausgebildet ist, um eine Diagnose-messung mit einer spezifischen Diagnoseprobe unter Verwendung des Parameterwerts jeder Kombination der Parameterkombinatio-nen, die die Ansammlung bilden, auszuführen, derart, dass die Vorrichtungseigenschaften aus der Position der tatsächlichen Messpunkte, die jeder Kombination entsprechen, auf der Hüllkurve auf dem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen, bestätigt werden können, und eine Einrichtung zum Bestimmen der Position der Messpunkte auf der Hüllkurve auf dem Empfindlichkeit-Oxidio-nen-Verhältnis-Graphen aufweist, die jeder Kombination entspre-chen, basierend auf den Koordinaten der tatsächlichen Messpunk-te, wenn die Empfindlichkeit auf einem Maximum ist; und eine Kalibrierungseinrichtung, die ausgebildet ist, um, wenn das Verhältnis der Empfindlichkeit an einem tatsächlichen Messpunkt, an dem die Empfindlichkeit basierend auf Diagnoseergebnissen auf einem Maximum ist, zu der Empfindlichkeit an einem spezifi-schen Referenzmesspunkt, der einer Kombination der Ansamm-lung aus Parameterkombinationen entspricht, außerhalb eines spezifischen Verhältnisses ist, jeder Parameter von zumindest ei-nigen der Parameterkombinationen, die in der Ansammlung aus Parameterkombinationen enthalten sind, durch eine spezifische Regel zu korrigieren. An die nebengeordneten Ansprüche schließen sich die geltenden Unteransprü-che 2 bis 8, 10 und 12 an. Wegen weiterer Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen. - 10 - II Die Beschwerde ist zulässig, insbesondere ist sie statthaft sowie form- und fristge-recht eingelegt (§ 73 Abs. 1, Abs. 2 PatG). Sie hat mit dem geänderten Patentbegehren Erfolg, denn das beanspruchte Dia-gnosesystem und die beanspruchten Kalibrierungssysteme sind für den Fach-mann ausführbar offenbart, gegenüber dem entgegengehaltenen Stand der Tech-nik jeweils neu (§ 3 Abs. 1 PatG) und ergeben sich für den Fachmann auch nicht in nahe liegender Weise aus dem Stand der Technik (§ 4 PatG). 1. Die Erfindung betrifft ein Diagnosesystem und ein Kalibrierungssystem für Ana-lysevorrichtungen und insbesondere ein System für die Diagnose und Korrektur von Vorrichtungseigenschaften eines induktiv gekoppelten Plasmamassenspektro-meters (ICP-MS; inductively coupled plasma mass spectrometer) (siehe Offenle-gungsschrift Abs. [0001]). Mit Hilfe eines Plasmamassenspektrometers wird eine Probe, wie z. B. eine Flüs-sigkeit, in ein Plasma eingebracht, die Probe wird ionisiert, diese Ionen werden ex-trahiert und eine Massenanalyse wird ausgeführt. Die Grundstruktur dieses Spek-trometers besitzt einen Plasmaerzeugungsteil zum Erzeugen von Plasma aus ei-ner Probe und einen Massenanalyseteil zum Extrahieren von Ionen aus dem er-zeugten Plasma und Analysieren dieser Ionen auf (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0002]). Der Plasmaerzeugungsteil weist einen Zerstäuber bzw. Atomiseur zum Zerstäuben einer flüssigen Probe unter Verwendung eines Gases mit einer spezifischen Flussrate, eine Sprühkammer zum Isolieren eines Teils der zerstäub-ten Flüssigkeitstropfen in der Form eines Aerosols zusammen mit einem geeigne-ten Gas (üblicherweise Argon) und einen Plasmabrenner auf, derart, dass Plasma aus dem Plasmagas erzeugt wird und das Aerosol in dieses Plasma eingebracht wird (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0003]). - 11 - Nach den Ausführungen in der Beschreibungseinleitung bestehen Probleme, wenn eine Hoch-Matrix-Probe durch herkömmliche Verfahren analysiert werde, da eine große Anzahl von Ionen zum Ende der Vorrichtung geführt wird, Oxide und ähnliches abgelagert werden und die Oberflächen des Probenahmekegels, des Skimmerkegels etc. verschmutzen, und die Öffnungen verstopft werden, was die Analyse unmöglich mache. Folglich sei es in dem Fall der Analyse solcher Proben notwendig, die Menge an Matrixmaterial zu reduzieren, das in den Masseanalyse-teil über die Schnittstelle eintritt (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0008]). Im Stand der Technik sei daher bekannt, eine hochkonzentrierte Probe manuell oder automatisch zu verdünnen, nachteilig sei dabei jedoch der zusätzliche Zeit-bedarf und die Möglichkeit, dass Fehler bei der Verdünnung auftreten (siehe Of-fenlegungsschrift Abs. [0009]-[0011]). In der Beschreibungseinleitung ist weiter angegeben, dass die Anmelderin in der japanischen Patentanmeldung JP 2008-045901 A (Anmeldennr. 2006 219 520) ei-ne Steuereinrichtung vorgeschlagen hat, um eine Verdünnung mit ausgezeichne-ter Reproduzierbarkeit zu realisieren. Wenn mit Hilfe dieses Verfahrens eine Hoch-Matrix-Probe analysiert werde, seien die verschiedenen Parameter derart eingestellt, dass die Anzahl der Ionen, die durch die Schnittstelle passieren, mini-miert und die Empfindlichkeit reduziert sei, während wenn eine Niedrig-Matrix-Pro-be analysiert. Werde, die verschiedenen Parameter derart eingestellt seien, dass die Anzahl von Ionen, die durch die Schnittstelle passieren, und die Empfindlich-keit erhöht seien (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0012]-[0013]). Es bestünde jedoch das Problem, dass die Messergebnisse zu Schwankungen neigen, da zusätzlich zu Drift und ähnlichen Problemen bei den drei primären Pa-rametern viele Parameter vorliegen, die die Messempfindlichkeit beeinflussen, und jene umfassen, die schwierig zu steuern sind. Ein weiteres Problem sei, dass viele Steuerparameter vorliegen und die Neigung besteht, dass Unterschiede bei Eigen-- 12 - schaften zwischen Vorrichtungen vorhanden sind (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0014]-[0015]). Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung die in der Patentanmeldung angegebe-ne Aufgabe zugrunde, ein Diagnose- und Kalibrierungssystem mit verbesserten Charakteristika zu schaffen. Insbesondere soll ein Diagnose- und Kalibrierungs-system geschaffen werden, mit dem es möglich ist, die Eigenschaften, die dem Plasma eines induktiv gekoppelten Massenspektrometers zugeordnet sind, in ei-nem kurzen Zeitraum zu diagnostizieren, und es möglich ist, die Einstellungen der Vorrichtung automatisch zu ändern, derart, dass sie nach Bedarf optimiert werden, mit der Absicht, die Probleme zu beseitigen, die dem Vorhandensein vieler Para-meter zugeordnet sind (siehe Offenlegungsschrift Abs. [0016]-[0017]). Die Lösung der Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Diagnosesystem ge-mäß Anspruch 1 und ein Kalibrierungssystem gemäß Anspruch 9 und 11 gelöst, insbesondere ist nach dem geltenden Anspruch 1 - eine Parameterkombination gespeichert, aus einem ersten Pa-rameter zum Bestimmen der Ausgabe der Hochfrequenzleis-tungsquelle, einem zweiten Parameter zum Bestimmen der Flussrate des Trägergases in dem Aerosol und einem dritten Parameter zum Bestimmen der Distanz zwischen dem Plasma-brenner und der Schnittstelle, und diese Parameterkombination bildet ein spezifisches Array, derart, dass die Messpunkte, die den entsprechenden gespei-cherten Kombinationen entsprechen, in Reihenfolge entlang der Richtung der Länge einer Hüllkurve angeordnet sind, die das Ende auf der Hochempfindlichkeitsseite eines Graphen bildet, der als eine Ansammlung aller Messpunkte auf einem Empfind-lichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graphen gezeichnet ist, - 13 - - wobei das Diagnosesystem ausgebildet ist, um eine Diagnose-messung mit einer spezifischen Diagnoseprobe unter Verwen-dung des Parameterwerts jeder Kombination der Parameter-kombinationen, die die Ansammlung bilden, auszuführen, der-art, dass die Vorrichtungseigenschaften aus der Position der tatsächlichen Messpunkte, die jeder Kombination entsprechen, auf der Hüllkurve auf dem Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhält-nis-Graphen, bestätigt werden können, - wobei das Diagnosesystem ausgebildet ist, um einen Mess-punkt zu bestimmen, bei dem während der Diagnosemessung die Empfindlichkeit maximal ist, und basierend auf einem Ver-gleich der gemessenen Empfindlichkeit an diesem Messpunkt mit einer maximalen Empfindlichkeit der Messpunkte, die den entsprechenden gespeicherten Kombinationen entsprechen, zu bestimmen, ob eine Parameterkorrektur ausgeführt wird oder nicht. Die Figur 1 zeigt primär den Plasmaerzeugungsteil (10) des Hauptabschnitts des ICP-MS, das durch die vorliegende Offenbarung verwendet wird, mit der Aerosol-erzeugungseinrichtung (30), dem Plasmabrenner (20) und der Steuervorrich-tung (70). - 14 - Die Figur 3 aus der Patentanmeldung wird zur Erklärung der Parameterkorrektur anhand des Graphen des Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnisses verwendet: - 15 - 2. Die geltenden Patentansprüche sind zulässig, da ihre Merkmale in den ur-sprünglichen Anmeldeunterlagen jeweils als zur Erfindung gehörend offenbart sind. Die Merkmale M1.1 und M1.2, M2, M2.1, M3.1 entsprechen den Merkmalen aus dem ursprünglichen Anspruch 1. Im Merkmal M2.2 wurde der bestimmte Artikel vor Messpunkte gestrichen, was je-doch aufgrund der gleichlautenden nachfolgenden Definition („Messpunkte, die den entsprechenden gespeicherten Kombinationen entsprechen“) zu keiner inhalt-lichen Änderung führt. Weiter ist präzisiert, dass die entsprechenden Kombinatio-nen die entsprechenden gespeicherten Kombinationen sind. Dieser Zusatz ist auf-grund des vorhergehenden Merkmals M2.1, nachdem die Ansammlung aus Para-meterkombinationen gespeichert ist, für den Fachmann offenbart. Das Merkmal M3 wurde um den Zusatz erweitert: „wobei das Diagnosesystem ausgebildet ist, um“. Diesen Zusatz hat der Fachmann bereits im ursprünglichen Anspruch 1 mitgelesen. Das Merkmal M4.1 ist Teil des Verfahrensschritts 308 nach Fig. 6, nach dem der Punkt, an dem die Messempfindlichkeit auf einem Maximum ist. Dies entspricht der ersten Gruppe nach Fig. 7. Das Merkmal M4.2 ist durch die ursprüngliche Be-schreibung S. 31 Z. 37 - S. 33 Z. 22 und die Verfahrensschritte 309 und 310 nach Fig. 6 offenbart. Damit sind die Merkmale des geltenden Anspruchs 1 ursprünglich offenbart. Die Ansprüche 2 bis 8, 10 und 12 entsprechen den ursprünglichen Ansprüchen 2 bis 8, 10 und 12. In den Ansprüchen 9 und 11 wurde analog zu Anspruch 1 die entsprechenden Kombinationen als gespeicherte Kombinationen präzisiert. - 16 - 3. Als Fachmann auf dem vorliegenden technischen Gebiet wird ein Diplom-Inge-nieur oder Physiker mit mehrjähriger Berufserfahrung in der Entwicklung von Plas-ma-Massenspektrometern, insbesondere von induktiv-gekoppelten Plasma-Mas-senspektrometern (ICP-MS) angesehen. 4. Der Gegenstand des Patentanspruchs 1 ist so deutlich und vollständig offen-bart, dass ein Fachmann ihn ausführen kann. Der Begriff „Oxidionenverhältnis“ nach den Merkmalen M2.2 und M3.1 wird in der Anmeldung nicht definiert, daher interpretiert der zuständige Fachmann diesen Begriff mit Hilfe seines Fachwissens. Dem Vertreter der Anmelderin wird zuge-stimmt, dass der englische Begriff „oxid ion ratio“ (Oxidionenverhältnis) dem Fach-mann aufgrund der Auswirkungen des Oxid-Ions auf die Messgenauigkeit des Analyt-Ions geläufig ist. So versteht der Fachmann den Begriff „oxid ion ra-tio“ (Oxidionenverhältnis) als das Verhältnis der Mono-Oxid-Ionen zu den Ionen ei-nes spezifischen Elements (vgl. A1 bis A4, A6). Als spezifisches Element werden in der Beschreibung die Elemente Ce (Cerium), Ba (Barium) und La (Lanthan) genannt (vgl. Offenlegungsschrift Abs. [0059]: „Mit Hilfe des vorliegenden Ausführungsbeispiels wird Ce (Cerium) als das spezifische Ion verwendet, es ist jedoch auch möglich, Ba (Barium) oder La (Lanthan) zu ver-wenden.“). Diese Elemente sind dem Fachmann im Zusammenhang mit dem Oxi-dionenverhältnis geläufig (vgl. u. a. A1 S. 19). Das Oxidionenverhältnis wird im Graph des Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-ses mit der Erfassungsempfindlichkeit für ein spezifisches Ion korreliert. So zeigt der Graph des Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnisses die Erfassungsempfind-lichkeit für ein spezifisches Ion auf der x-Achse und das Oxidionenverhältnis des betreffenden Ions auf der y-Achse, dargestellt als ein Logarithmus (vgl. Offenle-gungsschrift Abs. [0059]). - 17 - Auch für die Empfindlichkeit findet sich keine Definition in der Beschreibung. Unter „Empfindlichkeit“ wird in der Messtechnik die Änderung eines Wertes der Aus-gangsgröße eines Messgeräts bezogen auf die sie verursachende Änderung des Wertes der Eingangsgröße verstanden (vgl. u. a. DIN 1319). Im vorliegenden Ver-fahren ist jedoch zu beachten, dass die Empfindlichkeit des Messgeräts bei gleich-bleibender und – im Fall der Diagnosemessung - unbekannter Eingangsgröße er-mittelt wird. Bei konstanter Eingangsgröße ist die Empfindlichkeit direkt von der Ausgangsgröße abhängig. Im speziellen Fall der Kalibrierung von induktiv-gekop-pelten Plasmamassenspektrometern ist dem Fachmann weiter geläufig, die Emp-findlichkeit bei einer Messprobe als Zählwert pro Messperiode anzugeben (analog zur Intensität) (vgl. A4 S. 3-14, 3-25). Unterstützt wird diese Auslegung durch die Figur 8 der Patentanmeldung, bei der als Abszisse die „Empfindlichkeit (Intensi-tät)“ aufgetragen ist. Da der Fachmann somit die Begrifflichkeiten „Oxidionenverhältnis“ und „Empfind-lichkeit“ beim Lesen der Anmeldung für den speziellen Fall der Kalibrierung des Plasmamassenspektrometers entsprechend deuten und einordnen kann, ist ihm auch die Bedeutung des Graphen des Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnisses klar. In der Offenlegungsschrift Abs. [0059] heißt es zum Graph des Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnisses: „Dieser Graph des Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-ses zeigt die Erfassungsempfindlichkeit für ein spezifisches Ion auf der x-Achse und das Oxidionenverhältnis des betreffenden Ions auf der y-Achse, dargestellt als ein Logarithmus. Die Region, die durch gekrümmte Linien in der Figur einge-schlossen ist, zeigt die Verteilung von Messpunkten, wenn die oben erwähnten Faktoren, im Wesentlichen die Trägergasflussrate, die Hochfrequenz-Leistungs-quellen-Ausgabe und die Distanz Z zwischen dem Plasmabrenner und der Schnitt-stelle, als variable Parameter verändert werden.“ - 18 - Einem Fachmann ist somit der Zusammenhang zwischen Oxidionenverhältnis und Empfindlichkeit gemäß dem Empfindlichkeit-Oxidionenverhältnis-Graphen klar, so dass er in der Lage ist, die in der vorliegenden Anmeldung beschriebene techni-sche Lehre auszuführen. Es werden gemäß den Merkmalen M3 und M3.1 wäh-rend der Diagnosemessung die Messdaten Empfindlichkeit und Oxidionenverhält-nis bei konstanter Konzentration der Diagnoseprobe für jede Parameterkombina-tion gesammelt. Die Messergebnisse werden hinsichtlich der Messempfindlichkeit gemäß den Merkmalen M4.1 und M4.2 bewertet (vgl. Offenlegungsschrift Abs. [0090]-[0091]) und gegebenenfalls wird eine Parameterkorrektur ausgeführt (vgl. Offenlegungsschrift Abs. [0092]-[0094]). Der Fachmann kann daher anhand der Offenbarung das erfindungsgemäße Ziel zuverlässig in praktisch ausreichendem Maße erreichen. Da der Fachmann an-hand der Angaben unter Einsatz seines Fachwissens somit in der Lage ist, die of-fenbarte technische Lehre praktisch zu verwirklichen, ist die Erfindung ausführbar i. S. v. § 34 Abs. 4 PatG. 5. Die Vorrichtung gemäß dem geltenden Anspruch 1 ist neu und beruht auch auf einer erfinderischen Tätigkeit. Die nachveröffentlichte Druckschrift D1 zeigt die Merkmale der Vorrichtung nach M1.2 (vgl. D1 Fig. 1), mögliche Parameterkombination nach Merkmal M2 bis M2.2 (vgl. D1 Zusammenfassung, Fig. 4B) und die Messung aufgrund der Parameter-kombination nach dem Merkmal M3 (vgl. D1 Fig. 4A, 5A, 5B). Auch die Bestim-mung der maximalen Empfindlichkeit ist angegeben (vgl. D1 Anspruch 1). Eine Diagnose entsprechend den Merkmalen M3.1 und M4.2 ist jedoch nicht offenbart. Damit ist die Vorrichtung neu gegenüber der Lehre nach der Druckschrift D1. - 19 - Bezüglich der erfinderischen Tätigkeit kann die Druckschrift D1 nicht herangezo-gen werden, da sie erst nach dem Anmeldetag der vorliegenden Patentanmeldung offengelegt wurde. Ein Empfindlichkeit-Oxidionen-Verhältnis-Graph oder eine Anregung hierfür ist we-der aus dem Stand der Technik nach den Druckschriften D2 und D3 noch aus dem Fachwissen oder Fachkönnen ersichtlich. Damit steht der im Verfahren befindliche Stand der Technik und das Fachwissen und Fachkönnen des zuständigen Fachmanns der Patentfähigkeit hinsichtlich Neuheit und erfinderischer Tätigkeit nicht entgegen. 6. Die Patentfähigkeit des Kalibrierungssystems nach Anspruch 9 und 11 wird sinngemäß von den für das Diagnosesystem gemäß Anspruch 1 ausgeführten Gründen getragen. Die Ansprüche 9 und 11 sind daher gleichfalls gewährbar. 7. Die Unteransprüche 2 bis 8, 10 und 12 sind mit den nebengeordneten Ansprü-chen ebenfalls gewährbar. Die Unteransprüche 2 bis 8, 10 und 12 betreffen vorteilhafte Ausgestaltungen der nebengeordneten Ansprüche, und die übrigen Unterlagen erfüllen insgesamt die an sie zu stellenden Anforderungen. III Rechtsmittelbelehrung Gegen diesen Beschluss ist für jede am Beschwerdeverfahren beteiligte Person das Rechtsmittel der Rechtsbeschwerde gegeben, wenn gerügt wird, dass 1. das beschließende Gericht nicht vorschriftsmäßig besetzt war, - 20 - 2. bei dem Beschluss ein Richter mitgewirkt hat, der von der Ausübung des Rich-teramtes kraft Gesetzes ausgeschlossen oder wegen Besorgnis der Befangen-heit mit Erfolg abgelehnt war, 3. einem Beteiligten das rechtliche Gehör versagt war, 4. ein Beteiligter im Verfahren nicht nach Vorschrift des Gesetzes vertreten war, sofern er nicht der Führung des Verfahrens ausdrücklich oder stillschweigend zugestimmt hat, 5. der Beschluss aufgrund einer mündlichen Verhandlung ergangen ist, bei der die Vorschriften über die Öffentlichkeit des Verfahrens verletzt worden sind, oder 6. der Beschluss nicht mit Gründen versehen ist. Die Rechtsbeschwerdeschrift muss von einer beim Bundesgerichtshof zugelasse-nen Rechtsanwältin oder von einem beim Bundesgerichtshof zugelassenen Rechtsanwalt unterzeichnet und innerhalb eines Monats nach Zustellung des Be-schlusses beim Bundesgerichtshof, Herrenstraße 45a, 76133 Karlsruhe einge-reicht werden. Die Frist ist nur gewahrt, wenn die Rechtsbeschwerde vor Fristab-lauf beim Bundesgerichtshof eingeht. Die Frist kann nicht verlängert werden. Dr. Häußler Hartlieb Dr. Müller Zimmerer Pü

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