BUNDESPATENTGERICHT 21 W (pat) 56/99 _______________ (Aktenzeichen) Verkündet am 10. September 2002 … B E S C H L U S S In der Beschwerdesache betreffend das Patent 42 00 989 … BPatG 154 6.70 - 2 - hat der 21. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf die mündliche Verhandlung vom 10. September 2002 unter Mitwirkung des Rich-ters Dipl.-Ing. Klosterhuber als Vorsitzenden, der Richterin Dr. Franz sowie der Richter Dipl.-Phys. Dr. Kraus und Dipl.-Phys. Dr. Maksymiw beschlossen: Auf die Beschwerde der Einsprechenden wird der Beschluss der Pa-tentabteilung 33 des Deutschen Patent- und Markenamts vom 9. April 1999 geändert. Das Patent 42 00 989 wird mit folgenden Unterlagen beschränkt aufrechterhalten: Patentansprüche 1 bis 28, überreicht in der mündlichen Verhand-lung vom 10. September 2002, Beschreibung gemäß Patentschrift 42 00 989, wobei es auf Sei-te 2, Zeile 3 und Seite 3, Zeile 23 statt "26" heißen muß "25". 39 Blatt Zeichnungen Figuren 1 bis 62, gemäß Patentschrift 42 00 989. Die weitergehende Beschwerde wird zurückgewiesen. G r ü n d e I. Auf die am 16. Januar 1992 unter Inanspruchnahme der Priorität vom 25. Januar 1991 (JP P 3-23830) angemeldete und am 6. August 1992 offenge-legte Patentanmeldung ist das Patent mit der Bezeichnung - 3 - „Reflektor für einen eine Lichtquelle aufweisenden Fahrzeugscheinwerfer“ erteilt worden; die Veröffentlichung der Patenterteilung ist am 23. Mai 1996 erfolgt. Gegen das Patent ist Einspruch erhoben worden. Die Patentabteilung 33 des Deutschen Patent- und Markenamts hat das Patent durch Beschluss vom 9. April 1999 in vollem Umfang aufrechterhalten. Gegen diesen Beschluss richtet sich die Beschwerde der Einsprechenden. Die Patentinhaberin hat in der mündlichen Verhandlung nach Erörterung der Sach- und Rechtslage neue Patentansprüche 1 bis 28 vorgelegt. Die geltenden Patentansprüche 1 bis 28 lauten: "1. Reflektor für einen eine Lichtquelle aufweisenden Fahrzeugscheinwerfer, der mehrere reflektierende Sektoren auf-weist, gekennzeichnet durch zumindest einen ersten und einen zweiten reflektierenden Sektor (3, 4), die eine Leuchtdichteverteilung unterhalb einer Horizontalebene (H, H) bewirken, deren Oberfläche definiert ist durch: a) eine Referenzparabel (18, 36) mit einem Brennpunkt (F); deren Scheitelpunkt im Zentrum eines dreidimensionalen Koordinaten-systems (x, y, z) liegt, b) einen Referenzpunkt (D), der wie der Brennpunkt (F) auf der X-Achse liegt, wobei die Entfernung zwischen dem Referenzpunkt (D) und dem Scheitelpunkt größer als die Brennweite der Referenzpa-- 4 - rabel (18, 36) ist, und die Lichtquelle entlang der X-Achse zwischen dem Referenzpunkt (D) und dem Brennpunkt (F) angeordnet ist; und c) eine Schar von Schnittlinien (22, 37), die erhalten werden, wenn jeweils ein virtuelles Rotationsparaboloid (21´), welches eine opti-sche Achse parallel zu einem Lichtstrahlvektor (PM) aufweist, der dadurch erzeugt ist, dass ein vom Referenzpunkt (D) emittierter Lichtstrahl an einem beliebigen Punkt (P) der Referenzparabel re-flektiert und das den Referenzpunkt (D) als einen Brennpunkt hat, von einer Ebene (π1) geschnitten wird, die den Lichtstrahlvektor (PM) enthält und parallel zur vertikalen Z-Achse verläuft, wobei die Schnittlinien durch die Punkte (P) auf der Referenzpara-bel (18, 36) gebildet sind, so dass die Einhüllende der Schnittlinien die Sektoroberfläche bildet. 2. Reflektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die reflektierenden Oberflächen (11) zumindest des ersten und zweiten reflektierenden Reflektors (3, 4) mit einer gemeinsamen Linie anei-nanderstoßen. 3. Reflektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der oberhalb der Horizontalebene (H, H) liegende Sektor (3) durch die Fläche eines Rotationsparaboloids gebildet ist, 4. Reflektor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Re-flektor (1) weiter einen oberhalb der Horizontalebene (H, H) liegen-den dritten Sektor aufweist, der durch einen Rotationsparaboloid ge-bildet ist, und der noch einen Abschnitt aufweist, der sich mit einem Begrenzungswinkel (Θ) unterhalb der Horizontalebene (H, H) er-streckt. - 5 - 5. Reflektor nach Anspruch 1 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Sektor (3, 4L, 4R) eine reflektierende Oberfläche auf-weist, die so ausgebildet ist, dass sie wellenförmig ist, und Wellen zeigt, die größer werden und die Lichtstreuung in einer Horizontal-richtung vergrößern, wenn sich ein Bereich näher an einem Zentrum der reflektierenden Oberfläche befindet, wenn die reflektierende Oberfläche aus einer Richtung parallel zu ihrer optischen Achse be-trachtet wird, durch Modifizierung einer Formel, welche die reflektie-rende Oberfläche als eine Funktion einer Normalverteilung be-schreibt, durch eine periodische Funktion. 6. Reflektor nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Re-flektoroberfläche durch ein Produkt der Funktion der Normalvertei-lung und der periodischen Funktion definiert ist. 7. Reflektor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die periodische Funktion eine Dämpfungsfunktion ist. 8. Reflektor nach Anspruch 1, wobei die reflektierende Oberfläche durch folgende Gleichung beschrieben ist: (Q-f) QdfhdQfQfQd/1(4)2()(2122 ++ −+−+ x = 1+ dQfQfQd)2()(2 −+2 − −−++−= 1)2/(2 2 dQfQfQxdqy z = h - 6 - wobei fqfQ22 += wobei x, y und z Koordinatenwerte entlang einer orthogonalen Achse in dem System sind; f eine Brennweite der Referenzparabel ist; d eine Entfernung zwischen dem Brennpunkt F und dem Referenz-punkt D ist; h eine Höhe in Z-Richtung und q ein Punkt auf der ersten Parabel ist: und wobei D nicht gleich 0 im zweiten reflektierenden Sektor (4) ist. 9. Reflektor nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass zumin-dest ein reflektierenden Sektor (4), bei welchem d nicht gleich 0 ist, unterhalb einer Horizontalebene (h0) des Re-flektors (1) ein Rotationsparaboloid aufweist. 11. Reflektor nach Anspruch 4, wobei die reflektierende Oberfläche durch folgende Formel beschrieben ist: - 7 - dQfQfQdxQdfhdQfQfQdQdQdFQ)2(cos)(21)/(4)2()(21cos)(22222−+−+=++−+−+−+−θθ −−++−= 1)2()(cos2 2 dQfQfQxdq θy z = h wobei fqfQ22 += und wobei x,y und z Koordinatenwerte entlang einer orthogonalen Achse in dem System sind; f eine Brennweite der Referenzparabel ist; d eine Entfernung zwischen dem Brennpunkt F und dem Refe-renzpunkt D ist; h eine Höhe in der z-Richtung, q ein Punkt auf der ersten Parabel ist und Θ ein Begrenzungswinkel ist. 12. Reflektor nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzparabel (18, 36) eine orthogonale Projektion einer Parabel, die in der x-y-Ebene liegt, ist. 13. Reflektor nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflektoroberfläche durch eine Wellenfunktion moduliert ist, dass die Leuchtdichteverteilung in der Nähe des Zentrums (HV) auf einem Schirm ein Maximum aufweist. 14. Reflektor nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass eine periodische Dämpfungsfunktion auf zumindest einen Abschnitt der Oberfläche angewendet wird. - 8 - 15. Reflektor nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass dann, wenn x=x (q, h) ist, und y=y (q, h) ist, und z=z (q, h) ist, eine Streufunktion angewendet wird, so dass zumindest einer der Werte x, y oder z durch die Streufunktion geändert wird. 16. Reflektor nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Sektoren in einem Koordinatensystem (x, y, z) durch einen Winkel um die x-Achse herum definiert und von der Y-Achse aus gemessen werden, dass der erste Sektor oberhalb der Horizontalebene liegt, und dass der erste Sektor durch einen ersten Winkelbereich um die x-Achse herum definiert wird, der annähernd 0° bis 195° beträgt, wo-bei d=0 ist, Θ=0° ist, wobei y>0, z>0 ist, und y ytan 15° ist. 17. Reflektor nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Sektor (4L) unterhalb der Horizontalebene des Reflektors (1) liegt und durch einen zweiten Winkelbereich um die x-Achse herum von annähernd 195° bis 270° definiert wird, wobei d≠0, Θ=15°, für y0, z0) des Reflektors (1) durch ein Rotationsparaboloid gebildet ist. 23. Reflektor nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass sich ein Abschnitt des ersten Sektors (3) unterhalb der Horizontalebene (h
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