BPatG 15208.05BUNDESPATENTGERICHT21 W (pat) 63/08_______________________(Aktenzeichen)B E S C H L U S SIn der Beschwerdesachebetreffend die Patentanmeldung 10 2006 036 173.3-54…hat der 21. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts am 16. Februar 2011 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters Dipl.-Phys. Dr. Winterfeldt sowie der Richter Baumgärtner, Dipl.-Phys. Dr. Morawek und Dipl.-Ing. Veit- 2 -beschlossen:Auf die Beschwerde der Anmelderin wird der Beschluss der Prü-fungsstelle für Klasse H 01 S des Deutschen Patent- und Marken-amts vom 1. Juli 2008 aufgehoben und das Patent erteilt.Bezeichnung: Verfahren zur Impulsenergieregelung von Gasent-ladungs-StrahlungsquellenAnmeldetag: 31. Juli 2006.Der Erteilung liegen folgende Unterlagen zugrunde:Patentansprüche 1 und 2, eingegangen beim Deutschen Patent-und Markenamt am 30. Mai 2007,Patentansprüche 3 bis 6, eingegangen beim Deutschen Patent-und Markenamt am 31. Juli 2006;Beschreibung, Seiten 1 bis 3 und 5 bis 12, eingegangen beim Deutschen Patent- und Markenamt am 31. Juli 2006,Seite 4 mit Einfügung Seite 4a, eingegangen beim Deutschen Pa-tent- und Markenamt am 30. Mai 2007;8 Blatt Zeichnungen, Figuren 1, 2a und 2b, 3 bis 8, eingegangen beim Deutschen Patent- und Markenamt am 31. Juli 2006.- 3 -G r ü n d eIDie Patentanmeldung wurde am 31. Juli 2006 unter der Bezeichnung "Verfahren zur Impulsenergieregelung von Gasentladungs-Strahlungsquellen" beim Deut-schen Patent- und Markenamt eingereicht. Die Offenlegung erfolgte am 7. Februar 2008.Die Prüfungsstelle für Klasse H 01 S hat mit Beschluss vom 1. Juli 2008 die An-meldung zurückgewiesen, da das Verfahren des Patentanspruchs 1 in der Fas-sung vom 30. Mai 2007 gegenüber dem durch die DruckschriftenD1 DE 102 44 105 B3 undD2 US 2001/0042840 A1verkörperten Stand der Technik nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit beruhe.Gegen diesen Beschluss richtet sich die Beschwerde der Anmelderin.Sie verfolgt ihre Patentanmeldung unverändert auf der Grundlage des am 30. Mai 2007 eingegangenen Patentanspruchs 1 weiter.Der geltende Patentanspruch 1 lautet (mit Merkmalsgliederung):M1 Verfahren zur Energieregelung von gepulst betriebenen, gas-entladungsgepumpten Strahlungsquellen mit Anregung eines Arbeitsgases und Anwendung einer Hochspannungsaufla-dung, insbesondere von Excimerlasern, F2-Lasern und EUV-Strahlungsquellen, die im kontinuierlichen Betrieb eine quasi-- 4 -stationäre Impulsfolge, einen sogenannten Burst, generieren, mit den Schritten:M2 - Messen und Speichern der Impulsenergie von jedem ein-zelnen Impuls mindestens des aktuellen Burst,M3 - Bestimmen einer Abweichung ı GHUJHPHVVHQHQ,PSXOV-energie (En) für jeden Impuls (n) gegenüber einem vorbe-stimmten Zielwert der Impulsenergie, der Ziel-Energie (E0),M4 - Steuern der Impulsenergie (En) durch Einstellen der Lade-spannung (Un) als Einflussgröße für den nächsten Impuls (n) mittels einer Proportionalregelung, bei der die Ladespan-nung (Un) für den nächsten Impuls (n) gegenüber der Lade-spannung (Un-1) des Vorgängerimpulses (n-1) dadurch geän-dert wird, dass die Abweichung eines gemessenen Energie-wertes (En-i) wenigstens eines Vorgänger-Impulses (n-1) im aktuellen Burst von der Ziel-Energie (E0) zum An-stieg (dE/dU) der E(U)-Kurve bei der Arbeitsspannung ins Verhältnis gesetzt und mit einem anpassbaren Regelungs-faktor (a) gewichtet wird, dadurch gekennzeichnet, dassM5 - Messwerte von mindestens der Ladespannung als eine Ein-flussgröße auf die Impulsenergie für jeden einzelnen Impuls aufgenommen und gespeichert werden, undM6 - die Impulsenergie (En) durch Verwendung von wenigstens der Ladespannung (Un) als Einflussgröße für den jeweils nächsten Impuls (n) mit einer solchen Proportionalregelung gesteuert wird, bei der das besagte Verhältnis der Abwei-chung des aktuell gemessenen Energiewertes (En-i) von der Ziel-Energie (E0) zum Anstieg (dE/dU) der E(U)-Kurve mit ei-nem direkt von der Impulsnummer (n) abhängigen Rege-lungsfaktor an = 1/n gewichtet wird.- 5 -Die Anmelderin beantragt sinngemäß,den Beschluss der Prüfungsstelle für Klasse H 01 S des Deut-schen Patent- und Markenamts vom 1. Juli 2008 aufzuheben und das Patent mit den im Tenor angegebenen Unterlagen zu erteilen.Außerdem beantragt sie, die Beschwerdegebühr zurückzuerstat-ten.Im Prüfungsverfahren wurden noch folgende Druckschriften genannt:D3 US 6 005 879 undD4 US 2004/0021840 A1.Wegen der abhängigen Unteransprüche und weiterer Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen.II1. Die zulässige Beschwerde der Anmelderin ist begründet, denn das Verfahren gemäß Anspruch 1 ist neu und beruht auf einer erfinderischen Tätigkeit. Die Un-teransprüche betreffen Ausgestaltungen des Verfahrens nach dem Anspruch 1, die übrigen Unterlagen erfüllen ebenfalls die an sie zu stellenden Anforderungen.Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Impulsenergieregelung bei Lasern die Im-pulsfolgen (Burst) liefern. Bei der Anwendung solcher Laser zur Belichtung von Wafern zur Herstellung von Mikrochips werden hohe Anforderungen sowohl an die Dosisstabilität der Gesamtstrahlungsenergie einer Impulsfolge als auch an die Stabilität der einzelnen Impulse gestellt (siehe Offenlegungsschrift, Absätze [0004] bis [0008]). Als Stand der Technik werden verschiedene Druckschriften mit Hoch-- 6 -spannungsregelungen bei gasentladungsgekoppelten Lasern genannt (siehe Ab-sätze [0010, 0011]).Als Aufgabe der Erfindung wird in der Beschreibungseinleitung angegeben (siehe Absatz [0015]) eine neue Möglichkeit zur Stabilisierung der Strahlungsdosis einer gasentladungsgepumpten EUV-Strahlungsquelle zu finden, die bei minimaler Ab-weichung der Strahlungsdosis innerhalb jeder Strahlungsimpulsserie (Belichtungs-Burst) auch eine Minimierung der Abweichung der Einzelimpulsenergien von der Ziel-Impulsenergie gestattet, ohne das Prinzip der Proportionalregelung aufzuge-ben.Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1, das gegenüber dem Stand der Technik neu ist und sich für den Fachmann, einem auf dem Gebiet der Laser tätigen Dipl.-Physiker mit Kennt-nissen in der Regelungstechnik auch nicht in naheliegender Weise ergibt.Die neuen Ansprüche sind zulässig. Der Anspruch 1 wurde im Wesentlichen nur zur Abgrenzung gegenüber der Druckschrift D1 in zweiteiliger Form formuliert, die Unteransprüche 2 bis 6 sind unverändert geblieben.Die Lösung zur Erreichung einer hohen Dosisstabilität und auch einer guten Puls-zu-Puls-Stabiliät besteht insbesondere in einer Proportionalregelung mit von der Impulsnummer n abhängigen Regelungsfaktoren an = 1/n gemäß der Merkmals-gruppe M6.Aus der Druckschrift D1 (siehe insbesondere die Absätze [0033, 0034]) ist unstrei-tig ein Verfahren zur Energieregelung von Lasern gemäß den Merkmalsgrup-pen M1 bis M4 bekannt. Der Regelungsfaktor a (siehe Gleichung (1) in Ab-satz [0034]) wird aus "einfachen Gleichungen" so bestimmt, dass die mittlere qua-dratische Abweichung ın2 der Impulsenergieen En in Bezug auf eine Set-Ener-gie ES, die den Zielwert der Impulsenergie darstellt, ein Minimum annimmt (siehe - 7 -Gleichung (5) und Absatz [0040]). Damit kann der Regelfaktor laufend angepasst werden, um einen optimalen Regelfaktor zu finden (siehe Absatz [0042]). Der Re-gelfaktor hängt somit lediglich von dem mittleren quadratischen Fehler bei der Messung der Impulsenergie M und dem mittleren quadratischen Fehler R bei der Einstellung der Ladespannung und dem Spannungsrauschen des Netzgerätes ab (siehe Absatz [0040]). Eine Proportionalregelung mit einem von der Impulsnum-mer abhängigen Regelungsfaktor ist aus der Druckschrift D1 nicht bekannt.Aus der Druckschrift D2 (siehe insbesondere die Fig. 4 mit zugehöriger Beschrei-bung) ist ebenfalls ein Verfahren zur Energieregelung von Lasern zur Lithographie bekannt, bei dem in einem Prozessor ein Energie-Regelungs-Algorithmus abläuft, um in einer Rückkopplungsschleife den Laserstrahl auf eine konstante Energie zu regeln (siehe Anspruch 1 und Absatz [0040]). Gemäß der Druckschrift D2 durch-läuft der Laserstrahl eine Strahlformungsoptik 24, durch die sich die Energie der Laserimpulse als Funktion der Zeit ändert (siehe Absätze [0034, 0037]). Durch das Verfahren gemäß der Druckschrift D2 soll nun die Energie so geregelt werden, dass sie nach der Strahlformungsoptik konstant ist (siehe Absatz [0040]). Als Funktion für den Einfluss der Strahlformungsoptik auf die Energie der Laserimpul-se wird eine Exponentialfunktion mit der Energie als Funktion der Zeit angenom-men (siehe Absatz [0042]) und die Energie des Lasers so programmiert, dass die-ser Einfluss kompensiert wird (siehe Absätze [0045] bis [0047]). Aus der Druck-schrift D2 ist daher lediglich bekannt, einen Laser so zu regeln, dass der Sollwert der Energie der Laserimpulse als Funktion der Zeit eine Exponentialfunktion oder auch eine andere Funktion zur Beschreibung des Einflusses der Strahlformungs-optik auf die Energieverteilung ist (siehe Absatz [0046]). Einzelheiten der Rege-lung wie der verwendete Reglertyp bzw. dessen Anteile (P-, D-, I-Anteile) oder die verwendeten Regelungsfaktoren werden in der Druckschrift D2 nicht erwähnt. Sie enthält daher keine Hinweise für die beanspruchte Lösung gemäß der Merkmals-gruppe M6.- 8 -Die weiteren Druckschriften D3 und D4 liegen weiter ab und enthalten ebenfalls keine Hinweise auf eine von der Impulsnummer abhängige Regelung in der Form an = 1/n gemäß der Merkmalgruppe M6. Da somit in keiner der Druckschrif-ten aus dem Prüfungsverfahren eine Energieregelung von Laserimpulsen mit einer Proportionalregelung mit dem beanspruchten, speziellen Regelungsfaktor an be-kannt ist, der von der Impulsnummer abhängig ist, kann auch eine Zusammen-schau dieser Druckschriften dem Fachmann keine Hinweise auf dieses Verfahren liefern.2. Für eine Zurückzahlung der Beschwerdegebühr gemäß § 80 Abs. 3 PatG be-steht vorliegend kein Anlass. Sie ist nur dann gerechtfertigt, wenn es auf Grund besonderer Umstände nicht der Billigkeit entspricht, die Gebühr einzubehalten (vgl. Benkard, Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz, 10. Aufl., § 80 PatG, Rdn. 21 u. 25; Schulte, Patentgesetz, 8. Aufl., § 73, Rdn. 124). Dies ist bei beson-ders schweren Verfahrensfehlern der Fall oder wenn bei ordnungsgemäßer Sach-behandlung der Erlass eines Zurückweisungsbeschlusses nicht in Betracht ge-kommen wäre. Diese Voraussetzungen liegen hier nicht vor. Insbesondere hatte die Anmelderin im Verfahren vor dem Deutschen Patent- und Markenamt ausrei-chend Gelegenheit, sich zu äußern. Eine von der Prüfungsstelle abweichende Be-urteilung der erfinderischen Tätigkeit durch das Gericht stellt keinen Grund für eine Rückzahlung dar (vgl. Schulte a. a. O., Rdn. 130 m. w. N.).Dr. Winterfeldt Baumgärtner Dr. Morawek VeitPü
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